[實用新型]適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構

有效

• 申請號: 201920305417.7
• 申請日: 2019-03-11
• 公開（公告）號: CN210031836U
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 房江峰;王鳳梅;呂飛騰
• 申請（專利權）人: 深圳宏業基巖土科技股份有限公司
• 主分類號: E02D17/04
• 分類號: E02D17/04;E02D5/38
• 代理公司: 44356 深圳市壹品專利代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 江文鑫;唐敏

1.適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，包括采用氣動潛孔錘形成多個樁孔以及多個鋼管柱，多個所述樁孔呈矩形狀排列布置，所述鋼管柱置于所述樁孔且呈相對固定布置，所述鋼管柱的上部朝上延伸至所述樁孔外，各個所述鋼管柱與各個所述樁孔呈一一對應布置；相鄰所述鋼管柱之間安設綴板，多個所述綴板圍合布置形成綴板組，各個所述綴板組沿所述鋼管柱的長度方向呈間隔布置。

2.如權利要求1所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，所述鋼管柱的橫截面為箱型布置，所述鋼管柱具有兩個朝外布置的外端面，兩個所述鋼管柱的外端面呈垂直布置，所述鋼管柱的其一外端面與相鄰所述鋼管柱的外端面呈平齊布置，所述鋼管柱的另一外端面與另一相鄰所述鋼管柱的外端面呈平齊布置，沿所述鋼管柱的寬度方向，所述綴板的兩端分別貼合固定相鄰兩個所述鋼管柱的外端面。

3.如權利要求2所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，所述綴板覆蓋所述鋼管柱的外端面。

4.如權利要求1-3任意一項所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，相鄰所述綴板呈垂直布置。

5.如權利要求1-3任意一項所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，四個所述綴板呈圍合狀布置形成所述綴板組。

6.如權利要求1-3任意一項所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，沿所述鋼管柱的寬度方向，所述鋼管柱具有寬度值，所述寬度值大于所述樁孔的半徑。

7.如權利要求1-3任意一項所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，所述鋼管柱的截面呈正方形狀布置，具有四個角，所述樁孔與所述鋼管柱的四個角呈內切布置。

8.如權利要求1-3任意一項所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，所述綴板組包括靠近混凝土樁的底部綴板組，所述混凝土樁具有朝向所述底部綴板組的頂端面，所述混凝土樁的頂端面形成有朝下凹陷的嵌入槽，所述底部綴板組包括四個綴板，所述綴板的兩端的下部分別嵌入相鄰所述混凝土樁的嵌入槽。

9.如權利要求8所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，四個所述綴板兩兩相對固定，且呈圍合布置。

10.如權利要求1-3任意一項所述的適用于高巖面場地基坑的立柱樁及格構柱的施工結構，其特征在于，在所述格構柱上施工支撐梁，所述支撐梁與所述格構柱呈垂直布置；所述支撐梁一端呈固定布置，所述支撐梁的另一端與所述格構柱呈固定布置。