[實(shí)用新型]一種用于制備鈣鈦礦量子點(diǎn)的微流控芯片

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920286279.2
• 申請(qǐng)日: 2019-03-06
• 公開（公告）號(hào): CN210522480U
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏嶄;林鵬程;陳穎;閆琪;范裕豐;吳明慧;謝嘉進(jìn);何穎東
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): B01J19/00
• 分類號(hào): B01J19/00;B01L3/00;C09K11/66;B82Y20/00;B82Y40/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 任美玲;趙青朵

本實(shí)用新型提供了一種用于制備鈣鈦礦量子點(diǎn)的微流控芯片，在本實(shí)用新型中，原料液通過高壓泵進(jìn)入原料液流道中，反應(yīng)速度快，并且通過控制流道的尺寸，從而可實(shí)現(xiàn)通入液體的流通量范圍為40～400微升/分鐘，而且通過流道尺寸可以控制原料液流進(jìn)的速度和原料液的體積比，從而實(shí)現(xiàn)鈣鈦礦量子點(diǎn)的可控制備。

本申請(qǐng)要求于2018年12月12日提交中國專利局、申請(qǐng)?zhí)枮?201822089987.5、實(shí)用新型名稱為“一種用于制備鈣鈦礦量子點(diǎn)的微流控芯片”的中國專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通過引用結(jié)合在本申請(qǐng)中。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于微流控技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于制備鈣鈦礦量子點(diǎn)的微流控芯片。

背景技術(shù)

量子點(diǎn)由有限數(shù)目的原子組成，三個(gè)維度的尺寸均在納米數(shù)量級(jí)，具有把導(dǎo)帶電子、價(jià)帶空穴及激子在三個(gè)空間方向上束縛住的半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)。量子點(diǎn)有很好的光穩(wěn)定性、激發(fā)光譜寬且連續(xù)分布、發(fā)射光譜窄而對(duì)稱、顏色可調(diào)、熒光壽命長等優(yōu)點(diǎn)，在熒光探針上有很好的發(fā)展前景，以及在光電子器件領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

目前量子點(diǎn)的制備方法有金屬有機(jī)合成法和水相直接合成法，這些方法制備量子點(diǎn)可控性不太好，時(shí)間長。

實(shí)用新型內(nèi)容

有鑒于此，本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于提供一種用于制備鈣鈦礦量子點(diǎn)的微流控芯片，本實(shí)用新型提供的用于制備鈣鈦礦量子點(diǎn)的微流控芯片具有快速、高通量、可控性好的特點(diǎn)。

本實(shí)用新型提供了一種用于制備鈣鈦礦量子點(diǎn)的微流控芯片，包括：基板以及復(fù)合于基板上的蓋板，在所述基板上開設(shè)有反應(yīng)單元，所述反應(yīng)單元包括第一原料液流道、第二原料液流道以及反應(yīng)液流道，所述第一原料液流道的出口和第二原料液流道的出口與所述反應(yīng)液流道的入口相連通，所述蓋板上開設(shè)有第一原料液入口以及第二原料液入口，所述第一原料液入口與所述第一原料液流道的入口相連通，所述第二原料液入口與所述第二原料液流道的入口相連通，所述反應(yīng)液流道的出口與接料裝置相連；所述第一原料液流道的寬度為1～5微米，深度為0.5～3微米，長度為1～6微米；所述第二原料液流道的寬度為1～5微米，深度為0.5～3微米，長度為1～6微米；所述反應(yīng)液流道的寬度為1～4微米，深度為0.5～3微米，長度為8～15微米。

優(yōu)選的，所述反應(yīng)單元的重復(fù)個(gè)數(shù)為1～24個(gè)。

優(yōu)選的，所述反應(yīng)單元的重復(fù)個(gè)數(shù)為三個(gè)以上時(shí)，所述反應(yīng)單元按照?qǐng)A周均勻排列。

優(yōu)選的，在所述按照?qǐng)A周排列的反應(yīng)單元的圓心位置開設(shè)用于固定的圓孔。

優(yōu)選的，所述第一原料液流道和第二原料液流道的夾角為10°～180°。

優(yōu)選的，所述微流控芯片為圓形，所述圓形的直徑為20～40微米，所述微流控芯片的厚度為2～5微米。

優(yōu)選的，所述第一原料液入口以及第二原料液入口分別與高壓泵相連。

優(yōu)選的，所述反應(yīng)液流道位于第一原料液流道和第二原料液流道形成的角平分線的反向延長線上。