[實用新型]導電模組、具備該導電模組的觸摸屏及顯示裝置

有效

• 申請號: 201920252227.3
• 申請日: 2019-02-28
• 公開（公告）號: CN209281368U
• 公開（公告）日: 2019-08-20
• 發明（設計）人: 彭祥;應如波
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235
• 代理人: 常偉

本實用新型提供了一種導電模組、具備該導電模組的觸摸屏及顯示裝置。導電模組，包括第一納米銀線導電電極層、第一光學膠層、第二納米銀線導電電極層以及基底，所述導電模組還包括設置在第一納米銀線導電電極層和/或第二納米銀線導電電極層上的金屬網格層，所述金屬網格層延伸至與所述基底的至少一個邊緣等齊。導電模組導電模組該導電模組及具有該導電模組的觸摸屏和顯示裝置不僅增加了納米銀線導電電極層與基底的粘著性，還可以起到保護電極材料，增加屏體強度作用。

技術領域

本實用新型屬于顯示領域，具體涉及一種導電模組及具備該導電模組的觸摸屏和顯示裝置。

背景技術

隨著現代觸控技術的進步，觸摸屏應用范圍不斷擴大，手機、平板電腦中觸控功能幾近成為標準配置；在筆記本電腦、超極本、一體機中，具備觸控功能的產品占有市場份額也不斷擴大；從觸摸屏產業的角度看，觸摸屏低成本、量產性是未來發展的方向；而對于普通消費者，觸摸屏的輕薄性、高透過性則會得到更多關注；隨著觸控技術的發展，傳統的電阻式觸摸屏逐步被更輕薄、觸控性能更佳的電容式觸摸屏技術所取代；在諸多電容式觸摸屏結構中，以OGS及TOL結構的觸摸屏輕薄性、透過率最佳；對于已有OGS 及TOL工藝，業界通常使用單層ITO或ITO垮橋結構來形成觸摸電極結構，工藝上需要使用真空濺射設備沉積ITO薄膜，然后使用黃光制程形成圖形，對于垮橋結構還需在垮橋下制作透明絕緣層材料；無論是哪種結構，都需要昂貴的真空濺射工藝沉積ITO透明導電膜層；另外核心材料的氧化銦錫也逐漸暴露出諸多問題：第一、銦資源儲備有限，ITO作為透明電極在越來越多的領域得到廣泛應用，這就加速銦資源的消耗速度，銦價格也逐步提高，直接造成器件制造成本的增加；第二、ITO薄膜需要昂貴的真空鍍膜設備并且在較高的基板溫度下才能獲得高性能的ITO透明導電膜，設備投資巨大，工藝難度較高，并且濺射機臺很容易成為產線瓶頸，限制產能；第三、為了獲得較小的方阻值，通常ITO沉積的厚度較大，這就造成ITO圖形易見，為了克服這個缺點，業界往往在沉積ITO之前使用真空濺射沉積二氧化硅、五氧化二鈮等復合消隱層，這就更加增加了制造成本，限制產能。

基于上述因素，納米銀線替換ITO成為趨勢，研究者發現采用銀納米線材料制備的涂層具有優異的導電性、透光率和耐彎折性能，但銀納米線材料同時也具有接觸電阻較高、與基底附著性差、耐腐蝕性不強等缺點。

美國斯坦福大學發現在銀納米線層上電鍍金膜并進行熱壓處理可以減小線與線之間的接觸電阻；后來又發現采用鹵鎢燈照射可以使銀納米線交叉點在低溫下焊接在一起，進一步減小了銀納米線之間的接觸電阻，獲得的透明導電涂層透光率在80％時表面電阻只有10Ω/□。

雖然這些方法能夠有效地減小銀線的接觸電阻，但對提高涂層的耐蝕性沒有作用。美國加利福尼亞大學的一個研究組在銀納米線涂層表面先涂覆一層TiO₂溶膠，烘干后再涂一層導電高分子PEDOT:PSS，獲得了銀納米線 -TiO₂-PEDOT:PSS復合涂層；此復合涂層附著性、耐蝕性都有很大的提高，但需要的原料較多，步驟比較繁瑣，不適用于大面積成膜。

CN102087886A在基底表面先涂覆一層粘附劑(如PVA)，再涂覆銀納米線，經過干燥之后得到的復合涂層。這種方法雖然使涂層的附著性大幅度提高，卻降低了涂層的導電性。

另外也有不少研究組將銀納米線與化學氣相沉積法(CVD)制備的石墨烯復合，先是在金屬基底上采用化學氣相沉積法制備石墨烯，然后將石墨烯從金屬基底上轉移到銀涂層上，轉移方法有基體腐蝕法等。所述方法得到的復合涂層雖然導電性和附著性都有明顯提高，但化學氣相沉積法制備石墨烯，成本較高，工藝復雜，且石墨烯的高質量轉移過程也是一大難題(例如 CN103325442A，CN203085198U)。

本領域亟待開發一種透明導電薄膜，其能夠提高銀納米線涂層的導電性、附著力，還可以起到保護電極材料，增加屏體強度作用，同時其工藝簡單、生產成本低廉。

實用新型內容