[實用新型]一種蒸鍍裝置有效
| 申請號： | 201920246509.2 | 申請日： | 2019-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN209584359U | 公開（公告）日： | 2019-11-05 |
| 發明（設計）人： | 林進志 | 申請（專利權）人： | 陜西坤同半導體科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 西安亞信智佳知識產權代理事務所(普通合伙) 61241 | 代理人： | 楊亞會 |
| 地址： | 710000 陜西省西安市*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 監控裝置 控制電路 蒸鍍源 備用 蒸鍍裝置 主鍍 本實用新型 電性連接 監控系統 控制切換 時間結束 蒸鍍腔體 稼動率 晶振片 可切換 預期的 蒸鍍機 蒸鍍腔 停機 體內 監控 | ||
1.一種蒸鍍裝置，該裝置包括：
蒸鍍腔體；
N個蒸鍍源，每個蒸鍍源設于所述蒸鍍腔體內，用以對位于蒸鍍腔體內的待鍍膜基板進行蒸鍍處理；
N組鍍率監控裝置，每組鍍率監控裝置包括一主鍍率監控裝置及一備用鍍率監控裝置，且每組鍍率監控裝置對應一個蒸鍍源；以及
控制電路，所述控制電路與所述N個蒸鍍源、各主鍍率監控裝置及備用鍍率監控裝置電性連接；其中，所述控制電路，用于在每組的所述主要鍍率監控裝置使用時間結束時，控制切換到相對應的備用鍍率監控裝置進行監控。
2.根據權利要求1所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍源上方設有所述每組鍍率監控裝置。
3.根據權利要求2所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述每組鍍率監控裝置與所述蒸鍍源之間間隔預設距離。
4.根據權利要求3所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述預設距離為150mm。
5.根據權利要求2所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述每組鍍率監控裝置以環型方式排列。
6.根據權利要求5所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述每組鍍率監控裝置中的所述主鍍率監控裝置和備用鍍率監控裝置平行設置。
7.根據權利要求1～6之一所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述每組鍍率監控裝置均包括晶振片。
8.根據權利要求7所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述晶振片為石英晶振片或光學玻璃晶振片。
9.根據權利要求7所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述使用時間與所述晶振片的損耗相關。
10.根據權利要求9所述蒸鍍裝置，其特征在于，所述使用時間為8-10天。
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