[實(shí)用新型]一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920237103.8
• 申請日: 2019-02-25
• 公開（公告）號(hào): CN210021700U
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙梅芳;冷華春
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江佳運(yùn)能源技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B01D53/78
• 分類號(hào): B01D53/78;B01D53/48;G01N33/00;G01N27/06;G01N27/26;G01N7/04
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1.一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，包括H₂S氣罐（1）、吸收再生反應(yīng)器（2）、壓縮空氣罐（3）和計(jì)算機(jī)（6），所述吸收再生反應(yīng)器（2）內(nèi)設(shè)有盛放脫硫液的反應(yīng)室（2a），反應(yīng)室（2a）內(nèi)側(cè)設(shè)有多個(gè)檢測位（28），多個(gè)所述檢測位（28）分別安裝有與計(jì)算機(jī)（6）耦接的壓力感應(yīng)器（281）、電導(dǎo)率感應(yīng)器（282）和pH/ORP感應(yīng)器（283），所述吸收再生反應(yīng)器（2）外設(shè)有連通反應(yīng)室（2a）頂部的尾氣管（211），所述尾氣管（211）安裝有H₂S濃度檢測器（7），所述H₂S氣罐（1）與吸收再生反應(yīng)器（2）之間設(shè)有連通H₂S氣罐（1）和反應(yīng)室（2a）底部的含硫氣體管（4），所述含硫氣體管（4）安裝有氣體流量計(jì)（42）和含硫氣體調(diào)節(jié)閥（41）；所述壓縮空氣罐（3）與吸收再生反應(yīng)器（2）之間設(shè)有連通壓縮空氣罐（3）和反應(yīng)室（2a）底部的再生氣管（5），所述再生氣管（5）安裝有再生氣流量計(jì)（52）和再生氣調(diào)節(jié)閥（51）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，所述反應(yīng)室（2a）底部設(shè)置吸收氣體分布器（24）和再生氣體分布器（25），所述吸收氣體分布器（24）包括位于同一平面且均勻分布的多個(gè)吸收噴頭（241），所述吸收氣體分布器（24）與含硫氣體管（4）連通，所述再生氣體分布器（25）包括位于同一平面且均勻分布的多個(gè)再生管頭，所述再生氣體分布器（25）與再生氣體管連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，所述吸收再生反應(yīng)器（2）包括位于吸收再生反應(yīng)器（2）外側(cè)底部的第一防倒灌閥（26）和第二防倒灌閥（27），所述第一防倒灌閥（26）連通吸收氣體分布器（24）和含硫氣體管（4），所述第二防倒灌閥（27）連通再生氣體分布器（25）和再生氣管（5）。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，所述吸收再生反應(yīng)器（2）包括豎直的管體（22）和分別密封連接于管體（22）兩端的上封蓋（21）和下封蓋（23），所述管體（22）、上封蓋（21）和下封蓋（23）密封連接后形成內(nèi)側(cè)的反應(yīng)室（2a），所述管體（22）側(cè)面透明。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，所述管體（22）長度與內(nèi)徑比為6：1-4:1。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，包括尾氣處理裝置（8），所述尾氣處理裝置（8）為堿液池，所述尾氣管（211）的尾端通入堿液池內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，所述反應(yīng)室（2a）容積為1.5L-5.5L。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，所述管體（22）側(cè)面設(shè)有可啟閉的進(jìn)液口（221），所述下封蓋（23）底面設(shè)有可啟閉的排液口（222）。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣相濕法脫硫劑的脫硫評價(jià)系統(tǒng)，其特征在于，所述pH/ORP感應(yīng)器（283）包括第一感應(yīng)器（283a）和第二感應(yīng)器（283b），所述第一感應(yīng)器（283a）和第二感應(yīng)器（283b）位于反應(yīng)器內(nèi)液體液面下方，所述第一感應(yīng)器（283a）豎直高度高于第二感應(yīng)器（283b），且第一感應(yīng)器（283a）位于反應(yīng)室（2a）內(nèi)初始液面下方5-10cm。