[實(shí)用新型]陣列基板、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920231955.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-02-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209674154U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-11-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盧延濤;劉廣輝;王超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;G02F1/13;G02F1/1345;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 黃威<國(guó)際申請(qǐng)>=<國(guó)際公布>=<進(jìn)入國(guó) |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示區(qū) 基板 非顯示區(qū) 顯示裝置 陣列基板 本實(shí)用新型 邊緣設(shè)置 顯示面板 綁定區(qū) 窄邊框 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,所述陣列基板包括基板,所述基板具有顯示區(qū)及與所述顯示區(qū)相鄰的非顯示區(qū),所述基板的所述非顯示區(qū)遠(yuǎn)離所述顯示區(qū)的一端具有第一缺口,所述第一缺口靠近所述基板的所述顯示區(qū)的第一邊緣設(shè)置有綁定區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第一缺口將所述基板的所述非顯示區(qū)遠(yuǎn)離所述顯示區(qū)的一端分為第一非顯示區(qū)和第二非顯示區(qū)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括測(cè)試墊以及銀膠涂布區(qū),所述測(cè)試墊與所述銀膠涂布區(qū)均設(shè)置于所述第一非顯示區(qū)和/或所述第二非顯示區(qū),所述測(cè)試墊和所述銀膠涂布區(qū)交錯(cuò)排列。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板,其特征在于,所述綁定區(qū)在第一方向上的長(zhǎng)度小于或等于所述第一缺口沿所述第一方向的長(zhǎng)度,所述第一方向與所述非顯示區(qū)指向所述顯示區(qū)的方向垂直。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括多個(gè)沿所述第一方向排列且等間隔設(shè)置于所述綁定區(qū)的輸入墊,每個(gè)所述輸入墊在第一方向上的長(zhǎng)度與每個(gè)所述輸入墊在第二方向上的長(zhǎng)度的比值范圍為1/3-100。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述第一非顯示區(qū)和所述第二非顯示區(qū)沿第一方向的長(zhǎng)度相同,所述第一方向與所述非顯示區(qū)指向所述顯示區(qū)的方向垂直。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括覆晶薄膜,所述覆晶薄膜綁定于所述綁定區(qū)并穿過(guò)所述第一缺口以彎折至所述基板背向所述顯示區(qū)的一側(cè)。
8.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的陣列基板。
9.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括權(quán)利要求8所述的顯示面板及背光模組,所述背光模組對(duì)應(yīng)所述顯示面板的所述第一缺口的位置具有第二缺口。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其特征在于,所述顯示面板在所述背光模組上的垂直投影位于所述背光模組內(nèi)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其特征在于,所述顯示面板還包括覆晶薄膜,所述覆晶薄膜依次穿過(guò)所述第一缺口和所述第二缺口以彎折至所述背光模組背向所述顯示面板的一側(cè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示裝置,其特征在于,所述覆晶薄膜的彎折頂點(diǎn)位于所述第二缺口內(nèi)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示裝置,其特征在于,所述覆晶薄膜的彎折頂點(diǎn)在第二方向上到所述第一邊緣的垂直距離與所述第一缺口在第二方向上的長(zhǎng)度的比值范圍為0.8-1.2,所述第二方向?yàn)樗龇秋@示區(qū)指向所述顯示區(qū)的方向。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





