[實用新型]一種磁芯金屬化鍍膜治具有效
| 申請號: | 201920229161.6 | 申請日: | 2019-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN209418304U | 公開(公告)日: | 2019-09-20 |
| 發明(設計)人: | 朱小東 | 申請(專利權)人: | 深圳市康磁電子有限公司 |
| 主分類號: | H01F41/02 | 分類號: | H01F41/02;C23C14/50 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍崗區平湖街道*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁芯 網孔板 金屬化鍍膜 依次層疊 固定板 金屬化 收容腔 網孔 治具 固定板組件 同一位置 蓋板 通孔 本實用新型 真空鍍膜 組件包括 電極區 良品率 繞射 對準 收容 | ||
本實用新型提供了一種磁芯金屬化鍍膜治具,包括蓋板,依次層疊在所述蓋板上的固定板組件和網孔板組件;固定板組件包括至少兩個依次層疊的固定板,所述網孔板組件包括至少兩個依次層疊的網孔板;每個所述固定板設有多個通孔;每個所述固定板的同一位置的所述通孔依次對接形成對個收容腔,所述收容腔用于收容待金屬化磁芯;每個所述網孔板設有多個網孔,所述網孔用于形成所述待金屬化磁芯的電極區;每個所述網孔板的同一位置的所述網孔依次對接形成多個通道;每個所述通道與每個所述收容腔一一對準。該磁芯金屬化鍍膜治具能在真空鍍膜過程中,有效保護待金屬化磁芯防止繞射,實現精準的金屬化鍍膜,提升磁芯的性能和良品率。
技術領域
本實用新型涉及磁芯鍍膜治具技術領域,尤其涉及一種磁芯金屬化鍍膜治具。
背景技術
目前,以手機、智能手表為代表的電子終端設備日趨小型化、輕薄化,因此,磁芯等電子元器件的小型化、輕薄化也成為一種趨勢。由于磁芯的體積更小,結構更復雜,對磁芯進行金屬化鍍膜的要求也越來越高。
現有治具的設計,會在真空室進行鍍膜時采用物理氣相沉積(PVD)經常出現磁芯治具在鍍膜后產生繞射而影響鍍膜精度,從而導致磁芯性能不良的情況。
實用新型內容
有鑒于此,本實用新型提供了一種磁芯金屬化鍍膜治具,該磁芯金屬化鍍膜治具可以在PVD真空鍍膜過程中,有效保護待金屬化磁芯防止繞射,使待金屬化磁芯的端面預設區域進行精準的金屬化鍍膜,提升磁芯的性能和良品率。
第一方面,本實用新型提供了一種磁芯金屬化鍍膜治具,包括蓋板,依次層疊在所述蓋板上的固定板組件和網孔板組件;固定板組件包括至少兩個依次層疊的固定板,所述網孔板組件包括至少兩個依次層疊的網孔板;每個所述固定板設有多個通孔;所述固定板組件中,每個所述固定板的同一位置的所述通孔依次對接形成對個收容腔,所述收容腔用于收容待金屬化磁芯;每個所述網孔板設有多個網孔,所述網孔用于形成所述待金屬化磁芯的電極區;所述網孔板組件中,每個所述網孔板的同一位置的所述網孔依次對接形成多個通道;每個所述通道與每個所述收容腔一一對準,每個所述通道均具有在水平面上的第一正投影,每個所述收容腔均具有在水平面上的第二正投影,每個所述第一正投影與每個所述第二正投影一一對應,相對應的所述第一正投影與所述第二正投影中,所述第一正投影落在所述第二正投影內。
可選地,所述收容腔內的各個所述通孔的孔徑沿遠離所述蓋板表面的方向逐漸減少。
可選地,所述通道內的各個所述網孔的孔徑沿遠離所述蓋板表面的方向逐漸減少。
可選地,每個所述通道包括間隔設置的第一通道和第二通道,所述第一通道和所述第二通道均與同一個所述收容腔對準,所述第一通道具有在水平面上的第三正投影,所述第二通道具有在水平面上的第四正投影,所述第三正投影和所述第四正投影均落在所述第二正投影內。
可選地,所述網孔的截面形狀包括梯形、矩形、圓形或多邊形。
可選地,靠近所述網孔板組件的所述固定板的所述通孔的內壁上還設有定位凸起,用于抵接所述待金屬化磁芯的外周側壁。
可選地,所述固定板的厚度為0.1-0.3mm;所述網孔板的厚度為0.1-0.3mm。
可選地,所述蓋板由硬金屬板和軟材料墊粘結而成,所述軟材料墊粘夾設于所述硬金屬板和所述固定板組件之間。
可選地,所述磁芯金屬化鍍膜治具還包括一支架,所述支架固定在所述網孔板組件遠離所述蓋板的一側表面。
可選地,所述蓋板、所述固定板組件和所述網孔板組件上均對應設有用于固定連接的螺絲孔。
本實用新型的有益效果包括:
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