[實用新型]一種隨鉆方位密度測量裝置

有效

• 申請號: 201920217133.2
• 申請日: 2019-02-20
• 公開（公告）號: CN209838398U
• 公開（公告）日: 2019-12-24
• 發明（設計）人: 張堅鋒;于其蛟;李翠;杜海洋;韓春田;馬海;肖紅兵;魯超
• 申請（專利權）人: 中石化石油工程技術服務有限公司;中石化勝利石油工程有限公司
• 主分類號: E21B49/00
• 分類號: E21B49/00;E21B47/12
• 代理公司: 37107 東營雙橋專利代理有限責任公司
• 代理人: 侯華頌;李勇

1.一種隨鉆方位密度測量裝置，包括鉆鋌（1）和設置在鉆鋌（1）內的泥漿通道（21）、密度源倉（16）、密度探測器總成、電路骨架總成和總線信號線路（30），所述密度探測器總成包括長源距晶體探測器（2）、長源距光電倍增管（3）、短源距晶體探測器（4）、短源距光電倍增管（5）和前置放大電路（6）、高壓控制電路（7），所述電路骨架總成包括骨架（15）和固定在骨架（15）上的方位測量電路（10）、間隙測量電路（11）、采集控制存儲電路（12）和電源控制電路（13），所述采集控制存儲電路（12）包括脈沖調理電路（23）、峰值檢測電路（24）、AD轉換電路（25）、FPGA控制芯片（26）、總線隔離控制器（27）、調制解調器（28）和存儲器（29），其特征在于：所述鉆鋌（1）軸向設有貫通的泥漿通道（21），泥漿通道內設置中心管，鉆鋌（1）上部開設徑向凹槽，徑向凹槽下方的鉆鋌（1）上依次沿徑向開設長U型槽（14）和電路骨架倉，鉆鋌（1）上的徑向凹槽、長U型槽（14）和電路骨架倉外通過防磨蓋板（18）封閉連接；所述密度源倉（16）設置在鉆鋌（1）上端部的徑向凹槽內，并在密度源倉（16）外部包裹有伽馬射線屏蔽體（17），伽馬射線屏蔽體（17）和其對應的防磨蓋板（18）上開設放射窗口，在防磨蓋板（18）上設置開長源距窗口（19）和短源距窗口（20）；所述密度探測器總成外套一層承壓外殼（8），承壓外殼（8）整體設置在鉆鋌（1）長U型槽（14）內；所述電路骨架總成通過承壓插頭（9）與密度探測器總成連接。

2.如權利要求1所述隨鉆方位密度測量裝置，其特征在于：所述密度探測器總成中的長源距晶體探測器（2）、長源距光電倍增管（3）和短源距光電倍增管（5）、短源距晶體探測器（4）兩兩一組間隔設置，并在長源距晶體探測器（2）和短源距晶體探測器（4）對應處的防磨蓋板（18）上設置開長源距窗口（19）和短源距窗口（20）。

3.如權利要求2所述隨鉆方位密度測量裝置，其特征在于：長源距窗口（19）和短源距窗口（20）材料由鈹或者鈦或者兩者的組合物構成。

4.如權利要求3所述隨鉆方位密度測量裝置，其特征在于：長源距窗口（19）和短源距窗口（20）扇面角度為180°。

5.如權利要求1-4任一所述隨鉆方位密度測量裝置，其特征在于：所述的密度源倉（16）對應的伽馬射線屏蔽體（17）和防磨蓋板（18）開設放射窗口為向下傾斜窗口。

6.如權利要求5所述隨鉆方位密度測量裝置，其特征在于：所述伽馬射線屏蔽體（17）為鎢鎳鐵復合材料制成，所述密度源倉（16）內放置有2居里的發射性137Cs源，長、短源距晶體探測器（2、4）選用NaI閃爍晶體探測器；長源距晶體探測器（2）、長源距光電倍增管（3）和短源距晶體探測器（4）、短源距光電倍增管（5）保持在同一軸線上。

7.如權利要求5所述隨鉆方位密度測量裝置，其特征在于：所述骨架（15）呈三棱型結構，方位測量電路（10）、間隙測量電路（11）、采集控制存儲電路（12）和電源控制電路（13）的電路板采用多孔和密封高溫防震膠相結合的方式固定在骨架三個面上。

8.如權利要求5所述隨鉆方位密度測量裝置，其特征在于：在防磨蓋板（18）對應側的鉆鋌（1）上設有扶正防磨蓋板（22）。