[實用新型]一種圓底燒瓶的支撐架

有效

• 申請號: 201920208751.0
• 申請日: 2019-02-18
• 公開（公告）號: CN209501739U
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 姜姝旭
• 申請（專利權）人: 姜姝旭
• 主分類號: B01L9/00
• 分類號: B01L9/00
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 牟永林

一種圓底燒瓶的支撐架,涉及化學器材領域。現有的圓底的燒瓶支撐架存在不能直接搖晃燒瓶和任意改變圓底的燒瓶的角度的問題。圓底燒瓶支撐架包括支撐座、壓縮腔體、排氣閥和底盤，支撐座的上端面向內凹陷并設置成圓弧形的容置槽，容置槽的底部中心位置開有一圓孔，支撐座的下端與壓縮腔體的上端固定連接，壓縮腔體的下端固定連接在底盤上表面的中心位置，壓縮腔體的靠近下設置有一出氣管，出氣管的管道上設置有一個排氣閥，其中圓孔與壓縮腔體的內部腔體相通。本實用新型用于圓底燒瓶的支撐。

技術領域

本實用新型涉及化學器材領域，尤其涉及一種圓底燒瓶的支撐架。

背景技術

圓底燒瓶為底部呈球狀的透明玻璃燒瓶，是一種化學實驗中常用的加熱與反應的容器，用途廣泛。常見的圓底的燒瓶有單頸圓底燒瓶、三頸圓底燒瓶和四頸圓底燒瓶，一般圓底的燒瓶通過支撐架夾持瓶頸進行支撐，其中存在三個問題，一是：在向燒瓶中注入反應液后，想要均勻混合燒瓶中的反應液，需要將燒瓶從支撐架上的夾持件上取下，進行搖晃，然后再夾在夾持件上，操作不方便；二是：現有的支撐架用于支撐單頸圓底燒瓶僅能保持單頸圓底燒瓶處于豎直方向，對于三頸圓底燒瓶或四頸圓底燒瓶來說，傾斜的方向僅能通過夾持不同的瓶頸來實現，傾斜角度無法任意改變，需要更換不同的支撐架，達到所需燒瓶的傾斜角度，操作不方便，不利于實驗的操作；三是：一般化學實驗器材的清洗都不再采用人工清洗，而是采用機械自動清洗，在清洗過程中通過電機帶動清潔刷伸入燒瓶中轉動實現清洗過程，利用現有的支撐架用于支撐燒瓶，支撐架體積大，占用空間，并且現有的支撐架均為鐵質，容易上銹，對于三頸圓底燒瓶和四頸圓底燒瓶的其他瓶頸不方便清洗；因此急需一種能支撐多種圓底的燒瓶并可隨意改變圓底燒瓶傾斜角度的支撐架。

實用新型內容

本實用新型需要解決的技術問題是：現有的圓底的燒瓶支撐架存在不能直接搖晃燒瓶和任意改變圓底的燒瓶的角度的問題，進而提供一種圓底燒瓶支撐架。

本實用新型為解決上述技術問題采用的技術方案是：所述的圓底燒瓶支撐架包括支撐座、壓縮腔體、排氣閥和底盤，所述支撐座的上端面向內凹陷并設置成圓弧形的容置槽，容置槽的底部中心位置開有一圓孔，支撐座的下端與壓縮腔體的上端固定連接，壓縮腔體的下端固定連接在底盤上表面的中心位置，壓縮腔體的靠近下設置有一出氣管，出氣管的管道上設置有一個排氣閥，其中圓孔與壓縮腔體的內部腔體相通。

進一步的，所述的圓底燒瓶支撐架還包括一根壓縮彈簧，壓縮彈簧套在壓縮腔體的外面，且壓縮彈簧的一端固定連接在支撐座的外側壁上，壓縮彈簧的另一端固定連接在底盤的上表面上。

進一步的，所述的圓底燒瓶支撐架還包括一個轉盤，所述轉盤包括圓槽形底座、推力滾針軸承和內齒輪，推力滾針軸承的下軸承蓋固定安裝在圓槽形底座槽底中心位置，內齒輪固定安裝在推力滾針軸承的上軸承蓋的上表面上；所述的底盤下表面中心位置開有一圓槽，圓槽底部的中心位置帶有一個齒輪，齒輪的高度小于或者等于圓槽的深度，齒輪的外齒與內齒輪的內齒相嚙合，底盤的直徑小于圓槽形底座的內徑，且推力滾針軸承的外徑小于圓槽的內徑。

進一步的，所述的底盤的上表面帶有多個凸起，多個凸起周向均勻布置在底盤的上表面上。

進一步的，所述的容置槽的材質為硅橡膠。

進一步的，所述的容置槽的圓弧面與圓底燒瓶的瓶體弧面相同。

本實用新型的有益效果是：

1、將圓底燒瓶置于支撐座上的容置槽上，向下按壓圓底燒瓶，將壓縮腔體內的空氣通過出氣管排出，關閉排氣閥，支撐架內的空氣被排出，壓強小于外界大氣壓，圓底燒瓶被緊緊地吸附在容置槽上；圓底的燒瓶可豎直地放置在容置槽上，也可傾斜地放置在容置槽上，根據情況調整圓底燒瓶放置的角度；