[實(shí)用新型]一種卷繞式真空鍍膜機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920192140.1
• 申請(qǐng)日: 2019-02-12
• 公開（公告）號(hào): CN209619441U
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李正平;李成林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江德佑新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/56;C23C14/58
• 代理公司: 北京易捷勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11613
• 代理人: 韓國(guó)勝

1.一種卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

該真空鍍膜機(jī)包括有再處理箱(1)及鍍膜箱，再處理箱(1)包括放卷輥(2)、收卷輥(9)和再處理系統(tǒng)，所述再處理系統(tǒng)包括有多個(gè)展平輥(5)及溫度控制輥，所述溫度控制輥分別為第一溫度控制輥(4)、第二溫度控制輥(6)和第三溫度控制輥(7)；所述鍍膜箱包括鍍膜室，鍍膜室包括第一鍍膜室(21)、第二鍍膜室(14)和第三鍍膜室(10)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

所述第一鍍膜室(21)中包括第一鍍膜輥(20)和第一鍍膜室磁控靶(19)，所述第一鍍膜室磁控靶(19)設(shè)置在所述第一鍍膜輥(20)正下方位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

所述第二鍍膜室(14)中包括第二鍍膜輥(17)和蒸發(fā)源(16)，所述蒸發(fā)源(16)設(shè)置在所述第二鍍膜輥(17)正下方位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

所述第三鍍膜室(10)中包括第三鍍膜輥(13)和第三鍍膜室磁控靶(11)，所述第三鍍膜室磁控靶(11)設(shè)置在所述第三鍍膜輥(13)正下方位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

所述再處理箱(1)與鍍膜箱之間設(shè)置有隔板(22)，所述第一鍍膜輥(20)、第二鍍膜輥(17)和第三鍍膜輥(13)設(shè)置在隔板(22)上，各鍍膜輥與隔板(22)的連接位置處存在間隙，間隙寬度為1-3mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

所述再處理箱(1)中還設(shè)置有兩個(gè)傳感器輥，分別為第一傳感器輥(3)和第二傳感器輥(8)，所述第一傳感器輥(3)放置在放卷輥(2)的下方，第二傳感器輥(8)放置在收卷輥(9)的上方。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

所述溫度控制輥表面溫度范圍為0-800℃，其發(fā)熱方式為內(nèi)部發(fā)熱絲產(chǎn)熱。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

所述再處理箱(1)中設(shè)有多個(gè)通氣管道，通氣管道均充入惰性保護(hù)氣體；

所述第一鍍膜室(21)、第二鍍膜室(14)和第三鍍膜室(10)中設(shè)有布?xì)夤艿溃謩e為第一布?xì)夤艿?18)、第二布?xì)夤艿?15)和第三布?xì)夤艿?12)，其中第一布?xì)夤艿?18)和第三布?xì)夤艿?12)充入氬氣工作氣體，所述第二布?xì)夤艿?15)充入惰性保護(hù)氣體。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜機(jī)，其特征在于：

所述再處理箱(1)、第一鍍膜室(21)、第二鍍膜室(14)和第三鍍膜室(10)中均設(shè)置有真空計(jì)(23)。