[實用新型]一種頂板機構、粉料缸及激光選區熔化設備

有效

• 申請號: 201920183422.5
• 申請日: 2019-01-31
• 公開（公告）號: CN209614252U
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 張小明
• 申請（專利權）人: 廣東科學技術職業學院
• 主分類號: B22F3/105
• 分類號: B22F3/105;B33Y30/00;B29C64/153;B29C64/205;B29C64/245;B28B1/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 陳慧華

1.一種頂板機構，其特征在于：所述頂板機構包括從上到下依次固定連接的上板(2)、密封結構體(3)和下板(4)，所述上板(2)外周套設有第一耐磨環(61)，所述下板(4)的外周套設有第二耐磨環(62)。

2.根據權利要求1所述的一種頂板機構，其特征在于：所述密封結構體(3)的外周設有第一凹槽(8)，所述第一凹槽(8)內設有第一密封圈(5)。

3.根據權利要求1所述的一種頂板機構，其特征在于：所述上板(2)為圓形板，所述上板上依次設有外徑遞減的第一凸臺(7)、第二凸臺(13)，所述第一耐磨環(61)套設在所述第一凸臺(7)外周；所述下板(4)為環形板，所述下板(4)上依次設有外徑遞減的第三凸臺(9)、第四凸臺(14)，所述第二耐磨環(62)套設在所述第三凸臺(9)外周。

4.根據權利要求1或3所述的一種頂板機構，其特征在于：所述第一耐磨環(61)和/或第二耐磨環(62)為聚四氟乙烯耐磨環。

5.根據權利要求1所述的一種頂板機構，其特征在于：所述上板(2)和下板(4)的厚度一致。

6.根據權利要求1所述的一種頂板機構，其特征在于：所述上板(2)和下板(4)相對于密封結構體(3)對稱設置。

7.根據權利要求1所述的一種頂板機構，其特征在于：所述密封結構體(3)為環形結構體。

8.根據權利要求1所述的一種頂板機構，其特征在于：所述上板(2)上端面設有基板(1)。

9.一種粉料缸，包括缸體和驅動機構(10)，其特征在于：還包括如權利要求1～8任一所述的頂板機構，所述頂板機構設置在粉料缸的缸體(11)內，所述頂板機構與驅動機構(10)連接，由驅動機構(10)驅動頂板機構上下運動。

10.一種激光選區熔化設備，其特征在于：包括如權利要求9所述的粉料缸。