[實用新型]蒸鍍源及蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201920182065.0
• 申請日: 2019-02-01
• 公開（公告）號: CN209722279U
• 公開（公告）日: 2019-12-03
• 發明（設計）人: 沈文濤;高超飛;葛晶濤;劉旭亮;張明照
• 申請（專利權）人: 云谷(固安)科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 44224 廣州華進聯合專利商標代理有限公司
• 代理人: 唐清凱<國際申請>=<國際公布>=<進入

1.一種蒸鍍源，其特征在于，包括：蒸鍍源蓋板，用于支撐所述蒸鍍源蓋板的支撐體；所述蒸鍍源蓋板相對于所述支撐體可旋轉設置；其中，所述蒸鍍源蓋板包括蓋板本體，所述蓋板本體上設有貫穿所述蓋板本體的至少一個貫通槽，且所述至少一個貫通槽呈螺旋狀排布。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍源蓋板的旋轉中心與所述至少一個貫通槽的螺旋排布中心重疊設置。

3.根據權利要求2所述的蒸鍍源，其特征在于，所述旋轉中心與蓋板本體中心重疊設置。

4.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蓋板本體上設置有一個貫通槽，所述貫通槽呈螺旋狀延伸，或者，所述蓋板本體上設置有多個貫通槽，且多個所述貫通槽首尾相連呈螺旋狀排布。

5.根據權利要求2所述的蒸鍍源，其特征在于，所述至少一個貫通槽包括靠近所述螺旋排布中心的第一起始點，所述第一起始點與所述螺旋排布中心不重疊。

6.根據權利要求5所述的蒸鍍源，其特征在于，所述至少一個貫通槽與所述螺旋排布中心之間還包括至少一個銜接槽，所述銜接槽包括靠近所述螺旋排布中心的第二起始點。

7.根據權利要求6所述的蒸鍍源，其特征在于，所述銜接槽通過所述第一起始點與相應貫通槽相連通。

8.根據權利要求7所述的蒸鍍源，其特征在于，所述銜接槽為弧形。

9.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍源蓋板的縱截面包括由所述至少一個貫通槽形成的多個貫穿孔，所述貫穿孔靠近所述蓋板本體中心的一側邊與遠離所述蓋板本體中心的一側邊平行，所述貫穿孔的軸線與所述蓋板本體的面法線之間的夾角的最大值為銳角，和/或

所述貫穿孔靠近所述蓋板本體中心的一側邊平行于所述面法線，所述貫穿孔遠離所述蓋板本體中心的一側邊與所述面法線夾角最大值為銳角。

10.根據權利要求9所述的蒸鍍源，其特征在于，所述夾角自所述蓋板本體中心向外逐漸增大，和/或

所述貫穿孔的開口面積自所述蓋板本體中心向外逐漸增大。

11.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍源還包括磁性件，所述磁性件固定于所述蓋板本體的內部或者所述蒸鍍源蓋板的側面。

12.根據權利要求11所述的蒸鍍源，其特征在于，所述磁性件固定于所述蒸鍍源蓋板的外周面。

13.根據權利要求11所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍源還包括設置于所述蒸鍍源蓋板一側的驅動機構，所述驅動機構包括用于驅動所述磁性件轉動的磁力輪以及用于驅動所述磁力輪轉動的電機。

14.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括如權利要求1-13任一項所述的蒸鍍源。