[實用新型]狹縫元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920181768.1 | 申請日： | 2019-01-29 |
| 公開（公告）號： | CN209485535U | 公開（公告）日： | 2019-10-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李朝陽;安寧;潘從元 | 申請（專利權(quán)）人： | 安徽創(chuàng)譜儀器科技有限公司 |
| 主分類號： | G01J3/04 | 分類號： | G01J3/04;G02B5/00 |
| 代理公司： | 合肥誠興知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34109 | 代理人： | 湯茂盛 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 狹縫 孔洞 本實用新型 透光基 遮光層 光譜成像技術(shù) 基底表面 薄膜式 基底 堆積 平整 清潔 加工 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種狹縫元件，其特征在于：包括透光基底(10)，透光基底(10)上設(shè)有薄膜式的遮光層(20)，遮光層(20)上開設(shè)有孔洞(21)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的狹縫元件，其特征在于：遮光層(20)的厚度為納米量級。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的狹縫元件，其特征在于：遮光層(20)的層厚為50nm～200nm，遮光層(20)貼附在透光基底(10)的表面使遮光區(qū)域的光透過率在1％以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的狹縫元件，其特征在于：遮光層(20)的層厚為100nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的狹縫元件，其特征在于：透光基底(10)的透光率在90％以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的狹縫元件，其特征在于：透光基底(10)采用玻璃制成，遮光層(20)采用鉻或鉻的氧化物制成以及其它類似性能的鍍層材料。
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