[實用新型]一種旋轉靶探傷裝置

有效

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• 申請日: 2019-01-31
• 公開（公告）號: CN209707444U
• 公開（公告）日: 2019-11-29
• 發(fā)明（設計）人: 惠知;溫艷玲;陸典俊
• 申請（專利權）人: 河北冠靶科技有限公司
• 主分類號: G01N29/04
• 分類號: G01N29/04;G01N29/22
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及一種旋轉靶探傷裝置，包括水池和設在水池內的固定裝置與探傷裝置。探傷裝置包括固定在水池底面上的探傷架、水平固定在探傷架上的光杠和與光杠滑動連接的安裝底座。固定裝置包括對稱固定在水池底面上的左支架與右支架、與左支架轉動連接的左轉軸、固定在左轉軸上的左頂尖、與右支架螺紋的頂緊絲杠、和設在頂緊絲杠上的右頂尖。本實用新型用于旋轉靶的探傷，具有操作簡單，探傷速度快和探傷效率高的技術效果。

技術領域

本實用新型涉及靶材質量檢測的技術領域，尤其是涉及一種旋轉靶探傷裝置。

背景技術

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產業(yè)中，各種顯示技術(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。

靶材在制作完成后，需要進行探傷，發(fā)現(xiàn)其內部和表面可能存在的缺陷。探傷采用的設備為超聲波探傷儀，使用過程中需要配合特制的探頭使用。靶材品種多，外形多樣，尺寸變化大，大部分需要定制探頭，檢測成本非常高，并且對于靶材上不規(guī)則的部分，無法使用直接接觸法進行檢測。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種使用更加方便的旋轉靶探傷裝置。

本實用新型的上述目的是通過以下技術方案得以實現(xiàn)的：

一種旋轉靶探傷裝置，包括水池、設在水池內的固定裝置和設在水池內的探傷裝置；

所述探傷裝置包括固定在水池底面上的探傷架、水平固定在探傷架上的光杠和與光杠滑動連接的安裝底座。

通過采用上述技術方案，水池內充滿水后將超聲波探頭固定在安裝底座上，安裝底座在光杠上滑動的過程中，超聲波探頭對旋轉靶進行探傷。該過程中，超聲波探頭水平移動，避免了手動操作時檢測軌跡波動的問題，同時使用水作為檢測介質，避免了使用特殊定制探頭和楔塊，能夠降低檢測成本和檢測難度。

本實用新型進一步設置為：所述固定裝置包括對稱固定在水池底面上的左支架與右支架、與左支架轉動連接的左轉軸、固定在左轉軸上的左頂尖、與右支架螺紋的頂緊絲杠、和設在頂緊絲杠上的右頂尖。

通過采用上述技術方案，本實用新型提供了一種固定裝置的具體結構，左頂尖和右頂尖從兩側將旋轉靶頂住，使其懸空，這樣能夠對旋轉靶的全部外表面進行檢測。

本實用新型進一步設置為：所述頂緊絲杠的一端上轉動連接有右轉軸；

所述右頂尖頂在右轉軸的自由端上。

通過采用上述技術方案，左頂尖和右頂尖將旋轉靶頂緊后，通過轉動左轉軸或者右轉軸，就能夠帶動旋轉靶轉動，避免了反復拆裝的麻煩，能夠縮短檢測時間，提高檢測效率。

本實用新型進一步設置為：所述左轉軸的自由端上固定有轉盤。

通過采用上述技術方案，轉盤直徑大，握持更加方便。

本實用新型進一步設置為：所述轉盤上設有頂緊絲桿；