[實用新型]一種鋼帶電解褪鍍槽

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920169252.5
• 申請日: 2019-01-30
• 公開（公告）號: CN210657213U
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 肖振友
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫華友微電子有限公司
• 主分類號: C25F7/00
• 分類號: C25F7/00
• 代理公司: 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11411
• 代理人: 黃冠華

本實用新型公開了一種鋼帶電解褪鍍槽，包括槽體，所述槽體兩側(cè)開設(shè)有開口，所述槽體內(nèi)部設(shè)有陽極支架，所述陽極支架上支撐設(shè)置有兩塊相對設(shè)置的陽極板，所述陽極支架一側(cè)伸出所述槽體，所述陽極支架的上方設(shè)有導電支架，所述導電支架一側(cè)伸出所述槽體，所述導電支架下部位于所述兩塊陽極板之間設(shè)有接觸塊。使用本實用新型的鋼帶電解褪鍍槽在電解褪鍍鋼帶的過程中不會產(chǎn)生大量的錫泥沉淀物，能有效降低電解褪鍍槽的清洗工作量。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及電解設(shè)備領(lǐng)域，特別涉及一種鋼帶電解褪鍍槽。

背景技術(shù)

目前，鋼帶的褪鍍方案通常為純化學退鍍。這種方式的缺點主要為：①藥水腐蝕性強，造成鋼帶容易變薄，鋼帶使用周期短；②藥水揮發(fā)性強，會有濃烈的刺鼻氣味；③褪鍍完后會有大量錫泥沉淀物產(chǎn)生，長期積累會附著在設(shè)備表面，難以清理；④褪鍍完后對該些藥水的處理方面也需要消耗大量的化學資源進行處理，以達到排放標準；⑤定期對褪鍍設(shè)備進行清理時，會有大量的錫泥沉淀，導致清洗設(shè)備的工作量加大。

實用新型內(nèi)容

本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種便于鋼帶電解褪鍍的鋼帶電解褪鍍槽。

為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型的技術(shù)方案為：

一種鋼帶電解褪鍍槽，包括槽體，所述槽體兩側(cè)開設(shè)有開口，所述槽體內(nèi)部設(shè)有陽極支架，所述陽極支架上支撐設(shè)置有兩塊相對設(shè)置的陽極板，所述陽極支架一側(cè)伸出所述槽體，所述陽極支架的上方設(shè)有導電支架，所述導電支架一側(cè)伸出所述槽體，所述導電支架下部位于所述兩塊陽極板之間設(shè)有接觸塊。

優(yōu)選的，所述陽極支架由304不銹鋼扁鋼制作而成。

優(yōu)選的，所述陽極板為不銹鋼板。

優(yōu)選的，所述導電支架的材質(zhì)為304不銹鋼或鈦。

優(yōu)選的，所述接觸塊為紫銅塊。

采用上述技術(shù)方案，使用本實用新型的鋼帶電解褪鍍槽在電解褪鍍鋼帶的過程中不會產(chǎn)生大量的錫泥沉淀物，能有效降低電解褪鍍槽的清洗工作量。

附圖說明

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，1-槽體，2-陽極支架，3-陽極板，4-導電支架，5-接觸塊，6-鋼帶。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步說明。在此需要說明的是，對于這些實施方式的說明用于幫助理解本實用新型，但并不構(gòu)成對本實用新型的限定。此外，下面所描述的本實用新型各個實施方式中所涉及的技術(shù)特征只要彼此之間未構(gòu)成沖突就可以相互組合。

如圖1所示，一種鋼帶電解褪鍍槽，包括槽體1，用于裝載褪鍍藥水，所述槽體1兩側(cè)開設(shè)有開口，用于通過待電解褪鍍的鋼帶6，所述槽體1內(nèi)部設(shè)有陽極支架2，所述陽極支架2上支撐設(shè)置有兩塊相對設(shè)置的陽極板3，所述陽極支架2一側(cè)伸出所述槽體1，用于連接整流器負極，優(yōu)選的，所述陽極支架2由304不銹鋼扁鋼制作而成，使用這種材料能保證陽極支架2良好導電性的同時保證有效的支撐力和強度，所述陽極板3為不銹鋼板，所述兩塊陽極板3浸泡在褪鍍藥水內(nèi)，當做吸附錫離子的電極；所述陽極支架2的上方設(shè)有導電支架4，所述導電支架4一側(cè)伸出所述槽體1，用于連接整流器正極，優(yōu)選的，所述導電支架4的材質(zhì)為304不銹鋼或鈦，使用這種材料能保證陽極支架2良好導電性的同時保證有效的支撐力和強度且具有較強的耐腐蝕性，所述導電支架4下部位于所述兩塊陽極板3之間設(shè)有接觸塊5，用于與鋼帶6接觸，使鋼帶能夠作為正極，優(yōu)選的，所述接觸塊5為紫銅塊，能夠保證有效的導電性。