[實用新型]流體控制設備和控制系統有效
| 申請號： | 201920165658.6 | 申請日： | 2019-01-30 |
| 公開（公告）號： | CN210218827U | 公開（公告）日： | 2020-03-31 |
| 發明（設計）人： | 范國磊;霍平;肖亞維;類彥威;張京 | 申請（專利權）人： | 費希爾久安輸配設備(成都)有限公司 |
| 主分類號： | F16K17/32 | 分類號： | F16K17/32;F16K31/363;F16K37/00 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡欣 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 流體 控制 設備 控制系統 | ||
1.一種流體控制設備，其包括：
閥本體，所述閥本體限定入口、出口、以及連接所述入口與所述出口的流動路徑；
閥座；
控制元件，所述控制元件能夠相對于所述閥本體在關閉位置和打開位置之間移動，在所述關閉位置，所述控制元件接合所述閥座，在所述打開位置，所述控制元件與所述閥座間隔開；
執行器組件，所述執行器組件響應于感測壓力來控制通過所述流體控制設備的流體流動，并且其能夠操作地耦接到所述控制元件，所述執行器組件包括：
腔體，所述腔體限定感測腔室；以及
第一閥桿，所述第一閥桿能夠操作地耦接到所述控制元件并延伸通過所述感測腔室；
第二閥桿，所述第二閥桿能夠移動地設置在所述感測腔室與所述出口之間，所述第二閥桿被配置為在第一操作模式下接合所述執行器組件的第一閥桿，并且在第二操作模式下與所述第一閥桿分離；
其中，所述第二閥桿被配置為在所述第一操作模式下向所述執行器組件的所述第一閥桿施加力。
2.根據權利要求1所述的流體控制設備，其特征在于，還包括能夠操作地耦接到所述閥本體的端帽，所述端帽至少部分地包圍所述第二閥桿。
3.根據權利要求2所述的流體控制設備，其特征在于，還包括密封件，所述密封件設置在所述第二閥桿與所述端帽之間，以隔離所述感測腔室和所述出口。
4.根據權利要求1所述的流體控制設備，其中，所述感測壓力在所述第二操作模式下等于所述出口處的流體壓力，并且在所述第一操作模式下小于所述出口處的流體壓力。
5.根據權利要求2所述的流體控制設備，其中，所述第二閥桿相對于所述端帽滑動。
6.一種流體控制設備，其包括：
閥本體，所述閥本體限定入口、出口、以及連接所述入口與所述出口的流動路徑；
閥座；
控制元件，所述控制元件能夠相對于所述閥本體在關閉位置和打開位置之間移動，在所述關閉位置，所述控制元件接合所述閥座，在所述打開位置，所述控制元件與所述閥座間隔開；
平衡組件，所述平衡組件在第一操作模式下能夠操作地耦接到所述控制元件，并且在第二操作模式下與所述控制元件解耦；
其中，所述平衡組件被配置為在所述第一操作模式下向所述控制元件施加力以朝向所述閥座推動所述控制元件。
7.根據權利要求6所述的流體控制設備，其中，所述平衡組件能夠移動地設置在所述閥本體中。
8.根據權利要求6所述的流體控制設備，其特征在于，還包括執行器組件，所述執行器組件響應于感測壓力來控制通過所述流體控制設備的流體流動，所述執行器組件包括限定感測腔室的腔體、以及能夠操作地耦接到所述控制元件并延伸通過所述感測腔室的閥桿。
9.根據權利要求8所述的流體控制設備，其中，所述平衡組件包括浮動桿，所述浮動桿設置在所述執行器組件的感測腔室與所述閥本體的出口之間。
10.根據權利要求9所述的流體控制設備，其中，所述浮動桿在所述第一操作模式下與所述執行器組件的閥桿接觸，并且在所述第二操作模式下與所述執行器組件的閥桿間隔開。
11.根據權利要求10所述的流體控制設備，其中，所述平衡組件包括能夠操作地耦接到所述閥本體的端帽，所述端帽至少部分地包圍所述浮動桿。
12.根據權利要求11所述的流體控制設備，其中，所述平衡組件包括襯套和密封件。
13.根據權利要求12所述的流體控制設備，其中，所述密封件設置在所述浮動桿與所述端帽之間，以隔離所述感測腔室和所述出口。
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