[實用新型]電阻法測試薄膜氣體透過率的裝置

有效

• 申請號: 201920163249.2
• 申請日: 2019-01-28
• 公開（公告）號: CN209894654U
• 公開（公告）日: 2020-01-03
• 發明（設計）人: 張藝;朱龍基;余橋溪;劉騰;梁紹森;蔣星;楊伯儒;許家瑞;池振國;劉四委
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: G01N15/08
• 分類號: G01N15/08
• 代理公司: 44100 廣州新諾專利商標事務所有限公司
• 代理人: 周端儀

1.電阻法測試薄膜氣體透過率的裝置，其特征在于，包括：

下腔體，所述下腔體設置有腔室，腔室的壁上設置有供導線通過的引線孔，導線通過引線孔后，引線孔由玻璃或陶瓷材料氣密性灌封；腔室中有電阻檢測試樣片；導線的一端直接或間接連接設置在電阻檢測試樣片上的活潑金屬，另一端引出裝置連接至電阻測量表；

上蓋體，所述上蓋體對應腔室位置設置有孔；

待檢測的薄膜夾設在腔室側壁的上端面與上蓋體之間，下腔體、上蓋體通過機械結構緊固；在薄膜邊緣，能與腔室中電阻檢測試樣片上所用的活潑金屬反應的分子的濃度在微量級以下；外界氣體分子經由孔滲透薄膜后進入腔室內與電阻檢測試樣片上的活潑金屬反應，導致電阻發生變化并被電阻測量表測得。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，下腔體上圍繞腔室設置有環繞腔室，環繞腔室中能與電阻檢測試樣片上活潑金屬反應的分子的含量在微量級以下；引線孔貫穿設置在腔室與環繞腔室之間；上蓋體上對應環繞腔室設置有供導線通過的引出通孔。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，下腔體上圍繞腔室設置有環繞腔室，環繞腔室中能與電阻檢測試樣片上活潑金屬反應的分子的含量在微量級以下；引線孔貫穿設置在下腔體的側壁上，并與環繞腔室不相通。

4.根據權利要求2或3所述的裝置，其特征在于，環繞腔室內填充有吸收劑。

5.根據權利要求2或3所述的裝置，其特征在于，引線孔一端連通腔室，引線孔的另一端設置有防漏端蓋。

6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，導線包括硬質導線及連接在硬質導線兩端的軟質導線，硬質導線通過定位塊卡設在引線孔內，引線孔內環繞硬質導線有玻璃或陶瓷材料氣密性灌封體。

7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，電阻檢測試樣片包括載體，活潑金屬制作在載體上，載體是不導電、表面平整的玻璃片、陶瓷片或塑料片。

8.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，下腔體與上蓋體之間設置有軟質密封結構，軟質密封結構是通過在上蓋體朝向下腔體方向、環繞孔的位置制造凹槽，并在凹槽內嵌設彈性密封圈制造的。

9.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，軟質密封結構還包括薄膜被夾持部位、上蓋體與下腔體的蓋合面上涂覆的密封劑。

10.根據權利要求8或9所述的裝置，其特征在于，凹槽及所述彈性密封圈環繞設置有至少兩組。