[實(shí)用新型]一種磁光可調(diào)光衰減器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920161274.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209343071U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳建林;林玲;羅曉蕓 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 福建華科光電有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/09 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/09 |
| 代理公司: | 福州市鼓樓區(qū)京華專(zhuān)利事務(wù)所(普通合伙) 35212 | 代理人: | 王美花 |
| 地址: | 350000 福建省*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 楔形雙折射晶體 可調(diào)光衰減器 本實(shí)用新型 磁光 法拉第旋轉(zhuǎn)晶體 可變磁場(chǎng) 施加機(jī)構(gòu) 光束位移器 雙折射晶體 飽和磁場(chǎng) 工作效率 雙光纖頭 永久磁場(chǎng) 制造成本 準(zhǔn)直透鏡 組合件 磁疇 光路 裝配 飽和 調(diào)試 垂直 施加 外圍 側(cè)面 制造 | ||
1.一種磁光可調(diào)光衰減器,其特征在于:包括第一楔形雙折射晶體、第二楔形雙折射晶體、法拉第旋轉(zhuǎn)晶體、用于給所述法拉第旋轉(zhuǎn)晶體施加飽和磁場(chǎng)的飽和磁場(chǎng)施加機(jī)構(gòu)、用于施加可變磁場(chǎng)的可變磁場(chǎng)施加機(jī)構(gòu)、用于發(fā)射光信號(hào)和接收光信號(hào)的雙光纖準(zhǔn)直器;
所述第一楔形雙折射晶體包括第一楔角面和第二楔角面;所述第二楔形雙折射晶體包括第三楔角面和第四楔角面,所述第三楔角面平行于所述第二楔角面;
所述雙光纖準(zhǔn)直器包括光信號(hào)輸入的第一光纖、光信號(hào)輸出的第二光纖、以及準(zhǔn)直透鏡;第一光纖和第二光纖平行布置,第一光纖和第二光纖的出射端面后再布置所述準(zhǔn)直透鏡,所述第一楔形雙折射晶體、第二楔形雙折射晶體、法拉第旋轉(zhuǎn)晶體依次緊貼布置,且所述第二楔角面和第三楔角面緊貼,所述第一楔形雙折射晶體的光軸在水平軸線(xiàn)與法線(xiàn)所在的平面內(nèi),第一楔形雙折射晶體的光軸方位角與水平軸線(xiàn)成θ角,所述第二楔形雙折射晶體的光軸垂直于水平軸線(xiàn)與法線(xiàn)所在的平面;
所述飽和磁場(chǎng)施加機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述法拉第旋轉(zhuǎn)晶體的側(cè)邊,且施加的飽和磁場(chǎng)的方向垂直于水平軸線(xiàn);所述可變磁場(chǎng)施加機(jī)構(gòu)套設(shè)在所述第一楔形雙折射晶體、第二楔形雙折射晶體、法拉第旋轉(zhuǎn)晶體、飽和磁場(chǎng)施加機(jī)構(gòu)的外面,且所述可變磁場(chǎng)施加機(jī)構(gòu)施加的可變磁場(chǎng)的方向?yàn)槠叫杏谒捷S線(xiàn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁光可調(diào)光衰減器,其特征在于:所述第一楔形雙折射晶體、第二楔形雙折射晶體、法拉第旋轉(zhuǎn)晶體連接成一個(gè)整體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁光可調(diào)光衰減器,其特征在于:射入所述第一楔形雙折射晶體的入射光的入射角為β,所述第一楔角面的傾角為α1;所述第二楔角面和第三楔角面的傾角都為α2;所述第四楔角面的傾角為α3;α1、α2、α3、θ和β,滿(mǎn)足如下關(guān)系式:
其中,楔角面傾角符號(hào)規(guī)定為順時(shí)針傾斜為負(fù),逆時(shí)針傾斜為正;no為雙折射晶體O光折射率,ne為雙折射晶體E光折射率,θe為E光波法線(xiàn)與水平軸線(xiàn)的夾角,n(θe)為E光在雙折射晶體波法線(xiàn)方向傳播時(shí)的折射率,n(θe)和θe由以下兩方程得出:
sin(α1-β)=n(θe)·sin(α1-(θ-θe)) (2)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁光可調(diào)光衰減器,其特征在于:所述飽和磁場(chǎng)施加機(jī)構(gòu)為兩個(gè)永磁鐵,兩所述永磁鐵一一對(duì)應(yīng)布置在所述法拉第旋轉(zhuǎn)晶體的上下兩側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁光可調(diào)光衰減器,其特征在于:所述可變磁場(chǎng)施加機(jī)構(gòu)為感應(yīng)線(xiàn)圈。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁光可調(diào)光衰減器,其特征在于:所述法拉第旋轉(zhuǎn)晶體為不自帶磁場(chǎng)的法拉第旋轉(zhuǎn)片,并且在所述法拉第旋轉(zhuǎn)片后端面設(shè)置有反射膜層作為反射鏡面。
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G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線(xiàn)性光學(xué)
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