[實(shí)用新型]一種法布里-珀羅干涉型成像光譜儀有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920154347.X | 申請(qǐng)日: | 2019-01-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209214768U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-08-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡志堅(jiān);吳利;吳建宏 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01J3/45 | 分類(lèi)號(hào): | G01J3/45 |
| 代理公司: | 蘇州市中南偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 殷海霞 |
| 地址: | 215000 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微透鏡陣列 聚焦透鏡 探測(cè)相機(jī) 諧振腔 目標(biāo)物體 聚焦 入射光 入射 干涉型成像光譜儀 法布里-珀羅干涉 本實(shí)用新型 成像光譜儀 成像性能 依次設(shè)置 出射光 法布里 后焦面 平行光 分辨率 出射 平行 | ||
1.一種法布里-珀羅干涉型成像光譜儀,其特征在于,包括依次設(shè)置的聚焦透鏡、第一微透鏡陣列、F-P諧振腔、第二微透鏡陣列和探測(cè)相機(jī);目標(biāo)物體放置在所述聚焦透鏡一側(cè),目標(biāo)物體發(fā)出的光經(jīng)過(guò)所述聚焦透鏡聚焦在所述第一微透鏡陣列的前焦面上;所述探測(cè)相機(jī)位于所述第二微透鏡陣列的后焦面處;
其中,所述聚焦透鏡將入射光聚焦在所述第一微透鏡陣列的前焦面上,再通過(guò)所述第一微透鏡陣列將入射光平行入射到所述F-P諧振腔上,從所述F-P諧振腔出射的平行光再入射到第二微透鏡陣列上,最后所述第二微透鏡陣列的出射光聚焦在所述探測(cè)相機(jī)上。
2.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀,其特征在于,所述第一微透鏡陣列的前焦面上設(shè)置有孔板,所述孔板對(duì)前級(jí)像進(jìn)行離散采樣。
3.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀,其特征在于,所述第二微透鏡陣列和第一微透鏡陣列配合設(shè)置。
4.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀,其特征在于,所述探測(cè)相機(jī)包括多個(gè)像素點(diǎn),經(jīng)所述第二微透鏡陣列的光線聚焦在像素點(diǎn)上。
5.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀,其特征在于,所述探測(cè)相機(jī)為CCD或CMOS。
6.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀,其特征在于,所述第一微透鏡陣列和第二微透鏡陣列皆為一維微透鏡陣列。
7.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀,其特征在于,所述第一微透鏡陣列和第二微透鏡陣列皆為二維微透鏡陣列。
8.如權(quán)利要求7所述的成像光譜儀,其特征在于,所述探測(cè)相機(jī)為二維CCD探測(cè)相機(jī)或二維CMOS陣列探測(cè)相機(jī)。
9.如權(quán)利要求1所述的成像光譜儀,其特征在于,所述F-P諧振腔為可調(diào)諧F-P諧振腔。
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