[實用新型]一種雙排離子刻蝕微調機構及離子刻蝕設備

有效

• 申請號: 201920145503.6
• 申請日: 2019-01-28
• 公開（公告）號: CN209357692U
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發明（設計）人: 廖占武
• 申請（專利權）人: 北京精恒工控科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙) 11548
• 代理人: 李靜

1.一種雙排離子刻蝕微調機構，包括雙排測試頭（21）、雙排測試探針（22）、離子槍（11）、雙排擋板機構（14）、工件托盤（13）和雙排石墨分流板（25），所述離子槍（11）設置于雙排擋板機構（14）的中部下方，其特征在于，所述雙排擋板機構（14）上位于離子槍（11）的上方設置有雙排石墨分流板（25），所述離子槍（11）的底部設置有氬離子進口（12），所述雙排擋板機構（14）的上方設置有工件托盤（13）。

2.根據權利要求1所述的雙排離子刻蝕微調機構，其特征在于，所述雙排擋板機構（14）包括雙排擋板基座（15），所述雙排擋板基座（15）和雙排石墨分流板（25）之間安裝有擋板擋片（17），所述雙排擋板基座（15）下方安裝有雙排擋板電機（24），所述雙排擋板電機（24）與設置在雙排擋板基座（15）兩側的雙排擋板傳動軸承（16）驅動連接，所述雙排擋板傳動軸承（16）通過傳動軸承固定軸（20）與雙排擋板基座（15）連接，所述雙排擋板傳動軸承（16）與傳動擺臂（18）傳動連接，所述擋板擋片（17）包括擋板組件（19），所述擋板組件（19）與傳動擺臂（18）傳動連接。

3.根據權利要求2所述的雙排離子刻蝕微調機構，其特征在于，所述工件托盤（13）的上方設置有雙排測試頭（21），所述雙排測試頭（21）的下方設置有雙排測試探針（22），所述雙排測試頭（21）與測量系統（26）電性連接進行信號傳輸。

4.根據權利要求3所述的雙排離子刻蝕微調機構，其特征在于，所述雙排擋板電機（24）與控制電源電性連接，所述控制電源與測量系統（26）電性連接。

5.一種離子刻蝕設備，其特征在于，包括權利要求1～4任一項所述的雙排離子刻蝕微調機構。