[實(shí)用新型]涂布?jí)|片有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920121159.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209646879U | 公開(公告)日: | 2019-11-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 沈良嵩;許繼臣;張文炎;文曉平;吳志亮;賀夢(mèng)江;張耀 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 欣旺達(dá)電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B05C5/02 | 分類號(hào): | B05C5/02;B05C11/10;H01M4/139 |
| 代理公司: | 44343 深圳市明日今典知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 王杰輝<國際申請(qǐng)>=<國際公布>=<進(jìn)入 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道石*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 漿料 出料口 墊片本體 擾流板 支撐柱 噴出 本實(shí)用新型 箔材表面 成品電芯 中心區(qū)域 湍流 墊片 上漿 涂覆 保證 | ||
本實(shí)用新型提出了一種涂布?jí)|片,包括墊片本體、支撐柱和擾流板,墊片本體包括漿料出料口,支撐柱設(shè)置在墊片本體上,擾流板設(shè)置在支撐柱上,且位于漿料出料口的中心區(qū)域處,與漿料出料口的邊緣之間存在間隔。漿料從漿料出料口處噴出時(shí),經(jīng)過擾流板,產(chǎn)生湍流,使噴出的漿料更加均勻,從而提高了涂覆在箔材表面單位面積上漿料的重量一致性,保證成品電芯的容量一致性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及到鋰電子電池涂布領(lǐng)域,特別是涉及到一種涂布?jí)|片。
背景技術(shù)
隨著鋰電池技術(shù)的深入發(fā)展,大規(guī)模生產(chǎn)需求對(duì)涂布的產(chǎn)能和面密度一致性提出了更高的要求,高速擠壓涂布正是為了契合這一方向而產(chǎn)生的一種涂布技術(shù)。擠壓涂布技術(shù)是一種密閉涂布技術(shù),可以使?jié){料不受室內(nèi)大氣水分、粉塵等的影響,保證涂布的品質(zhì)。
擠壓涂布裝置主要包括儲(chǔ)料罐、供料系統(tǒng)、回流系統(tǒng)、涂布模頭、壓力檢測(cè)、涂布?jí)|片部分,其中涂布?jí)|片是高速涂布時(shí)保證生產(chǎn)時(shí)涂布面密度一致性最重要的裝置之一。傳統(tǒng)涂布?jí)|片的開口為直通口,這種開口方式對(duì)漿料的粘度、涂布模頭等要求極高,這種墊片涂覆在箔材表面的單位面積上的漿料重量一致性差,特別是TD方向(垂直于出料口方向)的面密度橫向一致性差,普遍表現(xiàn)為中間重,兩頭輕,造成電芯成品電芯容量一致性差。這種傳統(tǒng)的涂布?jí)|片窗口有限,不適合某些對(duì)涂布要求高的電芯型號(hào)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的為提供一種涂布?jí)|片,提高涂覆在箔材表面單位面積上漿料的重量一致性,保證成品電芯的容量一致性。
本發(fā)明提出一種涂布?jí)|片,包括墊片本體、支撐柱和擾流板,墊片本體包括漿料出料口,支撐柱設(shè)置在墊片本體上,擾流板設(shè)置在支撐柱上,且位于漿料出料口的中心區(qū)域處,與漿料出料口的邊緣之間存在間隔。
進(jìn)一步地,墊片本體包括連接部、豎直部和兩個(gè)彎折部,兩個(gè)彎折部分別與連接部的兩端固定連接,豎直部與連接部的中部連接,位于兩個(gè)彎折部之間;彎折部與豎直部之間構(gòu)成漿料出料口;豎直部具有多個(gè)時(shí),兩個(gè)相鄰豎直部之間構(gòu)成漿料出料口。
進(jìn)一步地,擾流板有多個(gè),多個(gè)擾流板之間間隔設(shè)置,將漿料出料口分隔成多個(gè)流道。
進(jìn)一步地,支撐柱的兩端分別與墊片本體連接,擾流板與支撐柱的柱體連接。
進(jìn)一步地,支撐柱的兩端分別與墊片本體和擾流板連接。
進(jìn)一步地,擾流板包括連接柱和板體,連接柱分別連接板體和支撐柱。
進(jìn)一步地,板體包括圓形板體、半圓形板體、橢圓板體、三角形板體、矩形板體、梯形板體中的一種或多種。
進(jìn)一步地,彎折部和豎直部在漿料出料口處的轉(zhuǎn)角角度為90度。
進(jìn)一步地,在彎折部和豎直部上都設(shè)置有陶瓷漿料通道,陶瓷漿料通道具有陶瓷漿料出料口,陶瓷漿料出料口的開口方向與漿料出料口保持一致。
進(jìn)一步地,支撐柱的寬度范圍包括1~100mm。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,有益效果是:本發(fā)明提出了一種涂布?jí)|片,包括墊片本體、支撐柱和擾流板,墊片本體包括漿料出料口,支撐柱設(shè)置在墊片本體上,擾流板設(shè)置在支撐柱上,且位于漿料出料口的中心區(qū)域處,與漿料出料口的邊緣之間存在間隔。漿料從漿料出料口處噴出時(shí),經(jīng)過擾流板,產(chǎn)生湍流,使噴出的漿料更加均勻,從而提高了涂覆在箔材表面單位面積上漿料的重量一致性,保證成品電芯的容量一致性。
附圖說明
圖1為本發(fā)明涂布?jí)|片第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明涂布?jí)|片第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明涂布?jí)|片第三實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本發(fā)明涂布?jí)|片第四實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
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