[實(shí)用新型]易潮解晶體的控溫裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920120370.7
• 申請(qǐng)日: 2019-01-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209487925U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-10-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李冬冬;吳佳濱;王延成
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 南京羅默激光科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01S3/04
• 分類(lèi)號(hào): H01S3/04;H01S3/042
• 代理公司: 南京華恒專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 32335
• 代理人: 宋方園

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種易潮解晶體的控溫裝置，包括加熱裝置、固定板和導(dǎo)熱塊，所述加熱裝置安裝在固定板的下方，導(dǎo)熱塊為U形狀，導(dǎo)熱塊位于固定板上，導(dǎo)熱塊與固定板形成兩端開(kāi)口的筒狀結(jié)構(gòu)，固定板上方放置有光學(xué)晶體，固定板與光學(xué)晶體之間設(shè)有下隔熱墊；通過(guò)加熱裝置將導(dǎo)熱塊加熱，導(dǎo)熱塊加熱將光學(xué)晶體的空氣加熱，使得光學(xué)晶體周?chē)諝獗３指稍铩１緦?shí)用新型的一種易潮解晶體的控溫裝置，通過(guò)加熱裝置將固定板加熱，利用熱傳導(dǎo)，將導(dǎo)熱塊加熱，導(dǎo)熱塊加熱將光學(xué)晶體的空氣加熱，使得光學(xué)晶體周?chē)諝獗３指稍?，保證晶體的潮解。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及易潮解晶體的控溫裝置，屬于光學(xué)元件領(lǐng)域。

背景技術(shù)

各類(lèi)激光器及實(shí)驗(yàn)科研領(lǐng)域用到的光學(xué)晶體，很多情況下是研究晶體的特性或者是做一些科研領(lǐng)域所用到的光學(xué)晶體，多數(shù)情況下是沒(méi)有進(jìn)行處理，如鍍膜或進(jìn)行光學(xué)加工處理的晶體，而這類(lèi)光學(xué)晶體容易潮解，在很短的時(shí)間內(nèi)就會(huì)損壞。有時(shí)潮解的時(shí)間不夠做一次科研實(shí)驗(yàn)，在實(shí)驗(yàn)未完成的情況下晶體就已損壞。晶體價(jià)格高，尤其是精度要求高的晶體，其成本非常高，大大增加了科研實(shí)驗(yàn)的時(shí)間和成本。

目前針對(duì)這類(lèi)晶體沒(méi)有很好的保護(hù)或控溫系統(tǒng)來(lái)保證晶體的潮解，對(duì)該領(lǐng)域也沒(méi)有相對(duì)應(yīng)的研究。大多都是根據(jù)正在科研的晶體，進(jìn)行簡(jiǎn)單設(shè)計(jì)防潮解的裝置，其中有很多劣勢(shì)，如結(jié)構(gòu)復(fù)雜，調(diào)節(jié)復(fù)雜，或熱量過(guò)大，導(dǎo)致晶體過(guò)熱，這樣會(huì)使晶體產(chǎn)生熱變形或熱應(yīng)力，導(dǎo)致光路不能沿直線(xiàn)傳輸或不能滿(mǎn)足技術(shù)指標(biāo)要求或測(cè)試數(shù)據(jù)。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明目的：為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明提供一種易潮解晶體的控溫裝置，通過(guò)加熱裝置將固定板加熱，利用熱傳導(dǎo)，將導(dǎo)熱塊加熱，導(dǎo)熱塊加熱將光學(xué)晶體的空氣加熱，使得光學(xué)晶體周?chē)諝獗３指稍铮ＷC晶體的潮解。

技術(shù)方案：為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的易潮解晶體的控溫裝置，包括加熱裝置、固定板和導(dǎo)熱塊，所述加熱裝置安裝在固定板的下方，導(dǎo)熱塊為U形狀，導(dǎo)熱塊位于固定板上，導(dǎo)熱塊與固定板形成兩端開(kāi)口的筒狀結(jié)構(gòu)，固定板上方放置有光學(xué)晶體，固定板與光學(xué)晶體之間設(shè)有下隔熱墊；通過(guò)加熱裝置將導(dǎo)熱塊加熱，導(dǎo)熱塊加熱將光學(xué)晶體的空氣加熱，使得光學(xué)晶體周?chē)諝獗３指稍铩?/p>

作為優(yōu)選，所述加熱裝置為T(mén)EC控溫單元。

作為優(yōu)選，所述TEC控溫單元下方設(shè)有冷卻裝置。

作為優(yōu)選，所述冷卻裝置為水冷卻裝置。

作為優(yōu)選，所述水冷卻裝置包含水冷板，所述水冷板內(nèi)設(shè)有冷卻回路，冷卻回路通過(guò)接頭與水冷機(jī)連接。

作為優(yōu)選，所述導(dǎo)熱塊外設(shè)有上隔熱墊，上隔熱墊外設(shè)有殼體。

作為優(yōu)選，所述導(dǎo)熱塊表面與光學(xué)晶體表面之間的距離其中，Φ₁₂為晶體表面與導(dǎo)熱塊表面之間的輻射換熱量；E₁₂為導(dǎo)熱塊表面輻射熱量；A為導(dǎo)熱塊表面的輻射面積；T₁為導(dǎo)熱塊的溫度；T₂為光學(xué)晶體自身的溫度，光學(xué)晶體自身的溫度是指光學(xué)晶體所在環(huán)境的溫度，在一開(kāi)始就確定的，可以用測(cè)溫計(jì)等方法測(cè)量環(huán)境溫度；ε₁為導(dǎo)熱塊的發(fā)射率；ε₂為光學(xué)晶體的發(fā)射率；σ為黑體輻射常數(shù)，I為導(dǎo)熱塊的輻射強(qiáng)度；η為滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)要求的熱量轉(zhuǎn)換效率。

在本發(fā)明中，TEC控制單元屬于高精度控制元件，可以準(zhǔn)確控制固定板上的溫度，從而控制側(cè)導(dǎo)熱塊及上導(dǎo)熱塊的溫度，保證各導(dǎo)熱塊的溫度在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，這樣各導(dǎo)熱塊的溫度輻射到光學(xué)晶體周?chē)諝獾臏囟葹榭煽刂茰囟龋ＷC光學(xué)晶體始終處于干燥及恒溫的狀態(tài)，保證光學(xué)晶體長(zhǎng)時(shí)間使用也不會(huì)出現(xiàn)潮解等損壞現(xiàn)象。