[實用新型]一種污水深度處理裝置

有效

• 申請號: 201920079995.3
• 申請日: 2019-01-17
• 公開（公告）號: CN209702486U
• 公開（公告）日: 2019-11-29
• 發明（設計）人: 吳以伯;閆承凱
• 申請（專利權）人: 大淵環境技術(廈門)有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F101/30;C02F101/16
• 代理公司: 44202 廣州三環專利商標代理有限公司
• 代理人: 郭錦輝;陳藝琴<國際申請>=<國際公布>

1.一種污水深度處理裝置，其特征在于，包括格柵，沉淀池，混凝沉淀池，等離子體單元，氫還原脫氮單元和污泥濃縮單元；

所述等離子體單元包括等離子體機；

所述氫還原脫氮單元包括氨氮氧化池和硝態氮還原池，所述氨氮氧化池和氫還原池為一體化設置；

所述污泥濃縮單元包括污泥濃縮池和污泥脫水機；

所述格柵，沉淀池，混凝沉淀池，等離子體單元，氫還原脫氮單元依次連接，污水經過格柵過濾和沉淀池沉淀后經過混凝反應池進行混凝反應，然后經過等離子體單元進行等離子體氧化氨氮后再經過氫還原脫氮單元進行氫還原脫氮；污泥濃縮單元則對所述沉淀池和混凝沉淀池的沉淀進行污泥濃縮及過濾。

2.根據權利要求1所述的污水深度處理裝置，其特征在于，所述格柵包括粗格柵和細格柵。

3.根據權利要求1或2所述的污水深度處理裝置，其特征在于，所述沉淀池為曝氣沉砂池。

4.根據權利要求1或2所述的污水深度處理裝置，其特征在于，在所述沉淀池和混凝沉淀池之間設置好氧生物處理單元。

5.根據權利要求4所述的污水深度處理裝置，其特征在于，在所述好氧生物處理單元之前設置初沉池，在所述好氧生物處理單元后設置二沉池。

6.根據權利要求1或2所述的污水深度處理裝置，其特征在于，所述混凝沉淀池中所用的混凝劑為鋁鹽、鐵鹽、聚鋁、聚鐵的一種或任意兩種以上組合；所述鋁鹽為硫酸鋁或氯化鋁；所述鐵鹽為硫酸鐵或硫酸亞鐵；所述聚鋁為聚合氯化鋁、聚合硫酸鋁或聚合硅酸鋁；所述聚鐵為聚合氯化鐵、聚合硫酸鐵或聚合硅酸鐵；混凝劑的用量為5～50g/m³；助凝劑為PAM，用量為1～2g/m³。

7.根據權利要求1或2所述的污水深度處理裝置，其特征在于，在混凝沉淀池前設置有水體pH檢測單元，當所述水體的pH小于7時，在所述水體中加入氫氧化鈉、碳酸鈉或石灰乳調節所述水體的pH值為7～9。

8.根據權利要求1或2所述的污水深度處理裝置，其特征在于，所述等離子體機的脈沖工作電壓為50～10000V，脈沖頻率為2400～2600MHz，電流密度為10～1000mA/cm²，污水在等離子體機中的停留時間為1～8min。

9.根據權利要求1或2所述的污水深度處理裝置，其特征在于，污水在氨氮氧化池中氧化20～90min。

10.根據權利要求9所述的污水深度處理裝置，其特征在于，污水在硝態氮還原池中反應10～90min。

11.根據權利要求1或2所述的污水深度處理裝置，其特征在于，污水在所述污水深度處理裝置中處理的時間為3～8小時。