[實(shí)用新型]一種等離子體污水凈化裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920079991.5
• 申請日: 2019-01-17
• 公開（公告）號: CN210048616U
• 公開（公告）日: 2020-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳以伯;閆承凱
• 申請（專利權(quán)）人: 大淵環(huán)境技術(shù)(廈門)有限公司
• 主分類號: C02F9/12
• 分類號: C02F9/12;C02F101/16
• 代理公司: 44202 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 郭錦輝;陳藝琴

1.一種等離子體污水凈化裝置，其特征在于，包括等離子體單元，脫氨和脫硝態(tài)氮單元和混凝沉淀過濾單元；

所述等離子體單元包括等離子體機(jī)；

所述脫氨和脫硝態(tài)氮單元包括脫氨池和氫還原脫硝態(tài)氮池，所述脫氨池和氫還原脫硝態(tài)氮池為一體化設(shè)置；

所述混凝沉淀過濾單元包括混凝池、助凝池、沉淀池和過濾池；

所述等離子體單元，脫氨和脫硝態(tài)氮單元和混凝沉淀過濾單元依次連接；污水經(jīng)過所述等離子體單元處理后再經(jīng)過所述脫氨和脫硝態(tài)氮單元中的脫氨池和硝態(tài)氮還原池，并在所述硝態(tài)氮還原池進(jìn)行氫還原反應(yīng)后流入所述混凝沉淀過濾單元中進(jìn)行混凝、沉淀和過濾。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述脫氨池和氫還原脫硝態(tài)氮池之間通過隔板和由上而下的管道間隔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述氫還原脫硝態(tài)氮池還有一個氫氣導(dǎo)入裝置，用于導(dǎo)入或補(bǔ)充氫氣；所述氫氣導(dǎo)入裝置從經(jīng)過脫氨池頂部的連通管插入或者安裝在氫還原脫硝態(tài)氮池的底部。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述氫氣導(dǎo)入裝置上安裝有單向閥，用于防止液體倒流入所述氫氣導(dǎo)入裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述沉淀池為混凝沉淀池、高效沉淀池、斜板沉淀池、高密沉淀池或磁混凝沉淀池中的一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述過濾池的過濾方式為砂濾、活性砂濾、轉(zhuǎn)盤過濾、纖維濾芯過濾、精密過濾、濾布濾池或V型濾池過濾中的一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述混凝池內(nèi)具有混凝劑，所述混凝劑包括鋁鹽、鐵鹽、聚鋁、聚鐵中的一種或幾種。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述鋁鹽為硫酸鋁或氯化鋁；所述鐵鹽為硫酸鐵或硫酸亞鐵；所述聚鋁為聚合氯化鋁、聚合硫酸鋁或聚合硅酸鋁；所述聚鐵為聚合氯化鐵、聚合硫酸鐵或聚合硅酸鐵。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述混凝劑的用量為5～50g/m³。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于，所述助凝池內(nèi)具有助凝劑，所述助凝劑為PAM，用量為1～2g/m³。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體污水凈化裝置，其特征在于還有一個氣導(dǎo)入裝置，所述氣導(dǎo)入裝置是商品氫供應(yīng)裝置、電解氯化鈉溶液制氫裝置、電解水制氫裝置、電解氫氧化鉀溶液制氫、電解氫氧化鈉溶液制氫裝置中的其中一種。