[實用新型]共聚焦拉曼光譜儀反應池

有效

• 申請號: 201920064346.6
• 申請日: 2019-01-15
• 公開（公告）號: CN209485993U
• 公開（公告）日: 2019-10-11
• 發明（設計）人: 郭方準;石曉倩;于榮環
• 申請（專利權）人: 大連齊維科技發展有限公司
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;G01N21/01
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 李馨

1.一種共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，包括：真空腔和置于其中的樣品臺，所述真空腔包括真空腔殼體和所述真空腔殼體內部開設的空腔，

所述樣品臺包括：低溫盤和設于低溫盤中的加熱裝置，所述低溫盤內部開設制冷劑空腔，所述低溫盤側壁還開設連通所述制冷劑空腔的制冷劑接口，

所述真空腔殼體側面開設用于調整空腔內環境的充氣/抽氣接口、用于為真空腔殼體降溫的冷卻水接口、用于為樣品臺充入制冷劑的制冷劑管接口和用于為加熱裝置導熱的電流/熱電偶饋通接口，所述真空腔殼體側面還設有螺接于其上的樣品臺支撐，所述樣品臺通過制冷劑管路連接在所述樣品臺支撐上，所述真空腔殼體的頂面、底面均設有用于保證激光的入射和透射的石英窗片。

2.根據權利要求1所述的共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，所述真空腔殼體頂部開設匹配上蓋板的開口，所述上蓋板螺接于所述真空腔殼體，所述上蓋板開設匹配上蓋的開口，所述上蓋螺接于所述上蓋板，頂面的石英窗片安裝于所述上蓋上。

3.根據權利要求1所述的共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，所述真空腔殼體底部開設匹配下蓋的開口，所述下蓋螺接于所述真空腔殼體，底面的石英窗片安裝于所述下蓋上。

4.根據權利要求2或3所述的共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，上蓋、下蓋與石英窗片之間均安裝聚四氟墊圈，上蓋板與真空腔殼體之間安裝有環形墊圈，石英窗片與真空腔之間也安裝有環形墊圈。

5.根據權利要求1所述的共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，所述低溫盤側壁開設容納加熱陶瓷導線的孔，所述加熱裝置包括設于低溫盤中心的加熱陶瓷和連接所述加熱陶瓷的接入、接出線，其與兩個電流饋通連接，給加熱陶瓷供電對樣品臺進行加熱。

6.根據權利要求1所述的共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，所述低溫盤側壁還開設用于測量低溫盤溫度的熱電偶接入口，熱電偶的一部分探入樣品臺中，所述熱電偶與熱電偶饋通相連。

7.根據權利要求1所述的共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，制冷劑入口管穿過所述樣品臺支撐與制冷劑接入口相連，制冷劑出口管穿過所述樣品臺支撐與制冷劑出口相連，制冷劑出、入口管均通過焊接與樣品臺緊固，制冷劑出、入口管的端部螺接于所述樣品臺支撐。

8.根據權利要求1所述的共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，冷卻水管螺接于所述冷卻水接口，所述冷卻水接口設于所述真空腔殼體的各個角部，多個冷卻水管均是一頭連接其中一個角部，另一頭連接該角部相鄰的角部。

9.根據權利要求1所述的共聚焦拉曼光譜儀反應池，其特征在于，充氣接口和抽氣接口對稱設置在真空腔殼體兩側。