[實用新型]一種鐳雕系統

有效

• 申請號: 201920046931.3
• 申請日: 2019-01-11
• 公開（公告）號: CN209407688U
• 公開（公告）日: 2019-09-20
• 發明（設計）人: 溫兵;趙立宏;楊二建
• 申請（專利權）人: 深圳市精而美科技有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/70
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 廖苑濱

1.一種鐳雕系統，其特征在于，包括機臺、設于所述機臺一側的存料架、設于所述機臺上的轉動盤、設于所述機臺上且圍繞于所述轉動盤設置的取料機和鐳雕機；所述取料機對應于所述存料架設置，所述取料機包括固定支架、固定于所述固定支架上且平行于所述轉動盤的轉動平面的導軌座和設于所述導軌座上的取料結構；所述導軌座從所述轉動盤延伸至所述存料架上。

2.根據權利要求1所述的鐳雕系統，其特征在于，所述固定支架和取料結構分別設于所述導軌座的兩個側面。

3.根據權利要求1所述的鐳雕系統，其特征在于，所述固定支架包括固定于所述機臺上的固定板和設于所述固定板上的垂向架，所述垂向架與所述導軌座固定連接，所述固定板設有避開所述轉動盤的弧形邊。

4.根據權利要求1所述的鐳雕系統，其特征在于，所述取料機的數量為兩個，分別為第一取料機和第二取料機；所述存料架的數量為兩個，分別為對應第一取料機的第一存料架和第對應第二取料機的第二存料架。

5.根據權利要求4所述的鐳雕系統，其特征在于，所述鐳雕機的數量為兩個，分別為第一鐳雕機和第二鐳雕機。

6.根據權利要求5所述的鐳雕系統，其特征在于，所述第一取料機和第二取料機相鄰布置，所述第一鐳雕機和第二鐳雕機相鄰布置。

7.根據權利要求6所述的鐳雕系統，其特征在于，所述第一取料機、第二取料機、第一鐳雕機和第二鐳雕機均勻布置于所述轉動盤周圍。

8.根據權利要求1所述的鐳雕系統，其特征在于，所述機臺的底部設有多個支撐滾輪。