[實用新型]雙離子束共濺射納米膜設備

有效

• 申請號: 201920031842.1
• 申請日: 2019-01-09
• 公開（公告）號: CN209619442U
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 偉業智芯（北京）科技有限公司
• 主分類號: C23C14/46
• 分類號: C23C14/46
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種雙離子束共濺射納米膜設備，其特征在于，包括：

真空室（1），一種金屬殼體，本底真空不低于1×10^-5Pa；

左側離子源（3）和右側離子源（2），分別安裝在所述真空室（1）的左右上方，是一種聚焦離子源，可產生聚焦的左側離子束（31）和右側離子束（21）；

工件組件（4），安裝在所述真空室（1）的正上方，由電機驅動旋轉軸（41），實現安裝在所述旋轉軸（41）下部的鍍膜工件（42）行星旋轉；

左側靶臺（5）和右側靶臺（6），分別安裝在所述真空室（1）的左右中部位置，所述左側離子束（31）和右側離子束（21）正好聚焦在左側靶臺（5）和右側靶臺（6）上表面；

輔源（7），安裝在所述真空室（1）的正后下方，能發射平行或發散輔源離子束（71），對準鍍膜工件（42）進行原位剝離清洗；

膜厚測量儀（9），安裝在鍍膜工件（42）位置的側位，對沉積在所述鍍膜工件（42）上表面的薄膜進行膜厚測量；

抽氣系統（8），安裝在所述真空室（1）的正下方，并與所述真空室（1）連通，對真空室（1）抽真空。

2.根據權利要求1所述的雙離子束共濺射納米膜設備，其特征在于，所述左側靶臺（5）和右側靶臺（6）是水冷靶臺。

3.根據權利要求1所述的雙離子束共濺射納米膜設備，其特征在于，所述抽氣系統（8）由分子泵（81）、機械泵（82）、插板閥（83）、管路（84）組成。