[實(shí)用新型]一體式襯衫高保型免燙裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920008907.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-01-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209443200U | 公開(公告)日: | 2019-09-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋海燕;劉政欽;張建祥;徐衛(wèi)林;鄒萌萌;耿彩花;倪愛紅;蔡海娟;趙戀戀;王英強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 魯泰紡織股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | D06B1/02 | 分類號(hào): | D06B1/02;D06B9/00;D06B23/04;D06B15/00;D06B15/09;D06F73/00;D06F59/02 |
| 代理公司: | 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 37212 | 代理人: | 耿霞 |
| 地址: | 255086 山東省*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 本實(shí)用新型 噴液裝置 焙烘裝置 烘干裝置 壓燙裝置 軌道 服裝加工設(shè)備 停止感應(yīng)器 服裝加工 立體模型 設(shè)備成本 依次設(shè)置 加工 | ||
1.一種一體式襯衫高保型免燙裝置,其特征在于:包括軌道(5),軌道(5)上設(shè)置有立體模型撐(6),軌道(5)上依次設(shè)置有噴液裝置(1)、烘干裝置(2)、立體壓燙裝置(3)和焙烘裝置(4),噴液裝置(1)上設(shè)置有PLC控制系統(tǒng)(10),噴液裝置(1)、烘干裝置(2)、立體壓燙裝置(3)和焙烘裝置(4)內(nèi)部均設(shè)置有停止感應(yīng)器(11)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體式襯衫高保型免燙裝置,其特征在于:所述的噴液裝置(1)包括噴液框架(7),噴液框架(7)的兩側(cè)對(duì)應(yīng)軌道(5)位置設(shè)置有通道門,噴液框架(7)的頂部設(shè)置有多組軟管(9),每組軟管(9)的下部均設(shè)置有噴頭(8),噴液框架的一側(cè)還設(shè)置有缸筒(12),缸筒(12)通過管路與頂部軟管(9)相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體式襯衫高保型免燙裝置,其特征在于:所述的烘干裝置(2)包括烘干框架(13),烘干框架(13)的兩側(cè)對(duì)應(yīng)軌道(5)的位置設(shè)置有通道門,烘干框架(13)內(nèi)部設(shè)置有低溫加熱室(14),低溫加熱室(14)內(nèi)壁設(shè)置有多個(gè)低溫加熱棒(15),低溫加熱室(14)一側(cè)設(shè)置有低溫?zé)犸L(fēng)機(jī)(16),低溫?zé)犸L(fēng)機(jī)(16)的進(jìn)風(fēng)口深入到低溫加熱室(14)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體式襯衫高保型免燙裝置,其特征在于:所述的立體壓燙裝置(3)包括立體壓燙框架(17),立體壓燙框架(17)兩側(cè)對(duì)應(yīng)軌道(5)的位置設(shè)置有通道門,立體壓燙框架(17)內(nèi)部設(shè)置有立體壓模裝置;
所述的立體壓模裝置包括鏡像對(duì)稱設(shè)置在軌道(5)兩側(cè)的立體壓模(20),立體壓模(20)固定在氣缸(18)的輸出端,氣缸(18)通過氣缸支架(19)固定在立體壓燙框架(17)內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體式襯衫高保型免燙裝置,其特征在于:所述的焙烘裝置(4)包括焙烘框架(21),焙烘框架(21)兩側(cè)對(duì)應(yīng)軌道(5)的位置設(shè)置有通道門,焙烘框架(21)的頂部?jī)?nèi)側(cè)設(shè)置有高溫加熱室(23),高溫加熱室(23)的內(nèi)壁裝有高溫加熱棒(22),高溫?zé)犸L(fēng)機(jī)(24)對(duì)稱安裝在焙烘框架(21)的左右兩側(cè),高溫?zé)犸L(fēng)機(jī)(24)出風(fēng)口伸入焙烘框架(21)內(nèi)部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體式襯衫高保型免燙裝置,其特征在于:所述的立體模型撐(6)包括模型支撐桿(25),模型支撐桿(25)底部設(shè)置有軌道輪(26),軌道輪(26)與底部的軌道(5)相適應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一體式襯衫高保型免燙裝置,其特征在于:所述的軟管(9)和噴頭(8)均勻設(shè)置在噴液框架(7)的頂部。
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