[實用新型]一種特高壓真空滅弧室

有效

• 申請號: 201920004474.1
• 申請日: 2019-01-03
• 公開（公告）號: CN209232661U
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發明（設計）人: 張雍;胡聞問;李志勇
• 申請（專利權）人: 武漢飛特電氣有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種特高壓真空滅弧室，包括下瓷筒(1)，其特征在于：所述下瓷筒(1)的頂部高溫釬焊有上瓷筒(14)，所述下瓷筒(1)與所述上瓷筒(14)的連接處釬焊有中封環(12)，所述下瓷筒(1)與所述上瓷筒(14)的連接處的內腔釬焊有屏蔽筒(10)，所述下瓷筒(1)的底部通過釬焊連接有靜端蓋(2)，所述下瓷筒(1)的內腔底部安裝有靜桿(4)，所述靜桿(4)與所述靜端蓋(2)相貫穿并與之高溫釬焊焊接，所述靜桿(4)的中部安裝有均壓罩(5)，所述上瓷筒(14)的頂部釬焊有動端蓋(6)，所述動端蓋(6)與所述上瓷筒(14)的頂部接觸面套接有封接環(7)，所述靜端蓋(2)和所述動端蓋(6)的相視一面均裝配焊接有均壓環(3)，所述動端蓋(6)的頂部同軸釬焊有固定環(13)，所述上瓷筒(14)的內腔中部安裝有動桿(15)，所述動桿(15)貫穿于所述固定環(13)的頂部，所述固定環(13)通過安裝導向套滑動連接有動桿(15)，所述動端蓋(6)的底部釬焊有波紋管(9)，所述波紋管(9)位于所述上瓷筒(14)的內腔上部，所述波紋管(9)的下部高溫釬焊焊接有保護罩(8)，所述動桿(15)與所述靜桿(4)的靠近一端均釬焊有觸頭組件(11)，且所述觸頭組件(11)位于所述屏蔽筒(10)的內腔。

2.根據權利要求1所述的一種特高壓真空滅弧室，其特征在于：所述下瓷筒(1)和所述上瓷筒(14)均為圓柱形金屬化瓷筒。

3.根據權利要求1所述的一種特高壓真空滅弧室，其特征在于：所述保護罩(8)為316L不銹鋼拉伸沖孔件。

4.根據權利要求1所述的一種特高壓真空滅弧室，其特征在于：所述屏蔽筒(10)的外壁中部開有卡位，所述卡位與所述下瓷筒(1)的內壁頂部相釬焊焊接。

5.根據權利要求1所述的一種特高壓真空滅弧室，其特征在于：所述下瓷筒(1)和所述上瓷筒(14)為大小相同的圓柱形。