[發(fā)明專利]容器以及烹飪器具在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911424132.6 | 申請日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN113116120A | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李興航;曹達華;周瑜杰;李濤;王婷 | 申請(專利權(quán))人: | 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司 |
| 主分類號: | A47J27/00 | 分類號: | A47J27/00;A47J36/02;A47J36/04 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 徐章偉 |
| 地址: | 528311 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 容器 以及 烹飪 器具 | ||
1.一種容器,其特征在于,包括:
容器本體,所述容器本體限定出具有頂部開口的腔室,所述容器本體的底部外表面具有測溫區(qū)和噴涂區(qū),所述測溫區(qū)位于所述容器本體的底部外表面的中部,所述噴涂區(qū)位于所述測溫區(qū)的四周;
導(dǎo)磁層,所述導(dǎo)磁層通過冷噴涂工藝噴涂于所述噴涂區(qū),所述導(dǎo)磁層的厚度在從所述容器本體的底部外周沿到所述測溫區(qū)的方向上呈先增大后減小的趨勢。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的容器,其特征在于,所述容器本體的底部中部向所述容器本體內(nèi)凹入以在所述容器本體的底部內(nèi)表面形成凸部,并在所述容器本體的底部外表面形成凹部,所述凹部的底壁表面形成所述測溫區(qū)的至少一部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的容器,其特征在于,所述凹部的側(cè)壁沿從上到下的方向逐漸向外傾斜延伸,所述凹部的側(cè)壁外表面的至少一部分形成所述噴涂區(qū)的一部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的容器,其特征在于,所述導(dǎo)磁層在所述凹部的側(cè)壁外周沿處的厚度大于所述導(dǎo)磁層在除去所述凹部的側(cè)壁外周沿的其余位置上的厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的容器,其特征在于,所述導(dǎo)磁層在所述凹部的側(cè)壁上的部分沿從外至內(nèi)的方向逐漸減小,所述導(dǎo)磁層在除去所述凹部的側(cè)壁的其余位置上的部分從外至內(nèi)的方向逐漸增大。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的容器,其特征在于,所述容器本體的底部外表面為平面,所述導(dǎo)磁層凸出于所述平面且環(huán)繞所述測溫區(qū)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的容器,其特征在于,所述導(dǎo)磁層的厚度為0-600微米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的容器,其特征在于,所述容器本體包括底壁、側(cè)壁和過渡壁,所述過渡壁分別與所述容器本體的底壁外周沿、所述容器本體的側(cè)壁下端圓滑過渡連接,
其中,所述測溫區(qū)位于所述容器本體的底壁外表面的中部,所述噴涂區(qū)位于所述容器本體的底壁外表面以及所述過渡壁的外表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的容器,其特征在于,還包括:氧化層,所述氧化層設(shè)于所述導(dǎo)磁層的外表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的容器,其特征在于,還包括:防銹層,所述防銹層至少設(shè)于所述導(dǎo)磁層的外表面。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的容器,其特征在于,所述防銹層的厚度為20-30微米。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的容器,其特征在于,所述防銹層覆蓋在設(shè)有所述導(dǎo)磁層的所述容器本體的整個外表面。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的容器,其特征在于,還包括:防護層,所述防護層設(shè)于所述容器本體的外表面,所述導(dǎo)磁層位于所述防護層與所述容器本體之間。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的容器,其特征在于,所述防護層為硅樹脂層、陶瓷涂層或者氟樹脂涂層。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的容器,其特征在于,所述防護層的厚度為20-30微米。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的容器,其特征在于,所述容器形成鍋具。
17.一種烹飪器具,其特征在于,包括根據(jù)權(quán)利要求1-16中任一項所述的容器。
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