[發明專利]一種光學掃描投影機構有效
| 申請號: | 201911422691.3 | 申請日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN113126414B | 公開(公告)日: | 2022-10-14 |
| 發明(設計)人: | 桂珞 | 申請(專利權)人: | 中芯集成電路(寧波)有限公司 |
| 主分類號: | G03B21/28 | 分類號: | G03B21/28;G02B26/10 |
| 代理公司: | 北京思創大成知識產權代理有限公司 11614 | 代理人: | 張立君 |
| 地址: | 315800 浙江省寧波市北*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光學 掃描 投影 機構 | ||
1.一種光學掃描投影機構,其特征在于,包括:
光源,用于提供光束;
片狀的壓電元件,所述壓電元件包括相對的固定端和可動端,自固定端至可動端的方向為第一方向,沿第一方向上所述壓電元件包括至少一個分離的子壓電元件,所述子壓電元件包括支撐層和位于所述支撐層上的壓電疊層結構,不同所述子壓電元件共用同一所述支撐層,且各子壓電單元單獨在通電狀態下產生翹曲;
支撐塊,所述壓電元件的固定端固定于所述支撐塊,形成懸臂結構;
反射結構,用于接收光束并反射光束,位于所述壓電元件表面或壓電元件內,所述反射結構至少位于壓電元件的可動端;
電連接結構,與所述子壓電元件電連接,且具有外部信號連接端;
光學承載體,用于接收反射結構的反射光束。
2.根據權利要求1所述的光學掃描投影機構,其特征在于,
所述壓電疊層結構至少包括一層壓電膜,以及位于每層所述壓電膜上下表面的電極,相鄰兩層所述壓電膜共用位于兩者之間的電極;
所述子壓電元件還包括:
位于所述壓電疊層結構上的鈍化層;
所述電極從下至上依次計數,分為奇數層電極和偶數層電極;
第一電極引出端,位于所述壓電元件的頂面或底面,與所述偶數層電極電連接;
第二電極引出端,位于所述壓電元件的頂面或底面,與所述奇數層電極電連接。
3.根據權利要求2所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述鈍化層可透光,所述電極表面光滑,所述壓電元件最頂部的電極作為反射結構。
4.根據權利要求3所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述電極的材料為反光材料,所述電極的材料包括金屬,所述金屬材料包括金、銀、鋁、鎢、鎳或鐵,及其合金。
5.根據權利要求3所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述鈍化層的材料包括氧化硅。
6.根據權利要求2所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述反射結構為形成于所述鈍化層上方的具有特定微納結構的反射層,所述反射層的材料包括氮化硅、氧化硅、多晶硅、氮氧化硅、鋁、金和/或鎳。
7.根據權利要求1所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述反射結構為設置于所述壓電元件可動端的反射鏡。
8.根據權利要求2所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述第一電極引出端、第二電極引出端均位于所述壓電元件的頂面,作為所述外部信號連接端。
9.根據權利要求2所述的光學掃描投影機構,其特征在于,不同所述子壓電元件的所述壓電膜厚度相同或者不同。
10.根據權利要求2所述的光學掃描投影機構,其特征在于,不同所述子壓電元件的所述壓電膜材料相同或者不同。
11.根據權利要求2所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述壓電膜的材料包括石英晶體、氮化鋁、氧化鋅、鋯鈦酸鉛、鈦酸鋇、鎵酸鋰、鍺酸鋰或鍺酸鈦。
12.根據權利要求1所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述子壓電元件的個數為多個時,多個所述子壓電單元之間電隔離,相鄰所述子壓電元件之間具有絕緣材料層或空氣隙。
13.根據權利要求1所述的光學掃描投影機構,其特征在于,所述光學承載體為投影屏幕或者待掃描物體。
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