[發明專利]一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法

在審

• 申請號: 201911422407.2
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111112215A
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發明（設計）人: 杜俊霖;劉正新;孟凡英;孫林
• 申請（專利權）人: 中威新能源（成都）有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/10;H01L21/67;H01L31/18
• 代理公司: 成都時譽知識產權代理事務所(普通合伙) 51250
• 代理人: 李雙

1.一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：具體包括如下步驟：

將待清洗的硅片放入配制好的堿液中；然后在堿液中通入微小臭氧氣泡進行清洗，所述的氣泡的平均直徑≤10mm。

2.根據權利要求1所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述清洗硅片的方法在硅片清洗裝置中完成，所述清洗裝置包括清洗槽和臭氧氣泡發生裝置，所述清洗槽中盛有堿液，所述臭氧氣泡發生裝置在堿液中形成微小氣泡，所述清洗裝置還包括堿液循環裝置，所述清洗槽上設置有進液口和出液口，所述進液口和所述出液口分別與所述堿液循環裝置連接。

3.根據權利要求1所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述的堿液選用氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀和氨水中的一種或幾種配制而成。

4.根據權利要求1所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法及裝置，其特征在于：所述的堿液的pH≥8。

5.根據權利要求1所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述的臭氧氣體的總體積與所述堿液的體積比≥1:100。

6.根據權利要求1所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述的清洗槽中的堿液溫度為5-95℃。

7.根據權利要求2所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述清洗槽包括外槽、內槽和槽蓋，所述的內槽與所述清洗槽底部固定連接，所述內槽的豎直高度低于所述外槽的高度；所述外槽底部設置有所述出液口，所述內槽底部設置有所述進液口，所述內槽內包含有多孔均流板和多孔均流管，其中，所述多孔均流管與所述進液口連通，所述多孔均流板設置于所述多孔均流管上方且平行于所述內槽底面；

所述堿液循環裝置包括循環泵和線式加熱器，所述循環泵與所述出液口連通，所述線式加熱器的一端與所述進液口連通，所述線式加熱器的另一端與所述循環泵連通；

所述臭氧氣泡發生裝置包括臭氧發生器和氣液混合器，所述臭氧發生器的出氣端與所述氣液混合器連接，所述線式加熱器通過所述氣液混合器與所述進液口連通。

8.根據權利要求2所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述臭氧氣泡發生裝置包括臭氧發生器和微泡發生管，所述臭氧發生器的出氣端通過出氣管與所述微泡發生管連通，所述微泡發生管位于所述內槽中，其中，所述微泡發生管位于所述多孔均流板上部，所述微泡發生管不低于兩根且相鄰的所述微泡發生管之間的間距不大于10cm；所述微泡發生管的數量≥2。

9.根據權利要求2所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于，還包括有硅片花籃，所述硅片花籃位于所述內槽內。

10.根據權利要求2所述的一種含有臭氧的堿性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：還包括槽蓋，所述槽蓋覆蓋在所述外槽頂部。