[發明專利]一種等溫正火爐的爐溫控制系統

有效

• 申請號: 201911420177.6
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111004907B
• 公開（公告）日: 2021-12-21
• 發明（設計）人: 蘇大明;李杰武
• 申請（專利權）人: 佛山市三水鳳鋁鋁業有限公司;廣東鳳鋁鋁業有限公司
• 主分類號: C21D9/00
• 分類號: C21D9/00;C21D11/00;C21D1/28;C21D1/34;C21D1/62
• 代理公司: 佛山信智匯知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 44629
• 代理人: 郭文娟

本發明提供了一種等溫正火爐的爐溫控制系統，包括上料裝置、預熱裝置、噴霧裝置、二次加熱裝置和控制器，所述上料裝置設置在所述預熱裝置的一側，所述噴霧裝置設置在所述預熱裝置的另一側，所述噴霧裝置遠離所述預熱裝置的一側設有所述二次加熱裝置，所述上料裝置、所述預熱裝置、所述噴霧裝置和所述二次加熱裝置內均設有運輸裝置，所述上料裝置、所述預熱裝置、所述噴霧裝置、所述二次加熱裝置依次排列形成生產線。通過采用上料裝置、預熱裝置、噴霧裝置、二次加熱裝置和控制器使得經過所述柜體內的所述加工件得到初步的加溫，保證所述加工件得到進一步的預熱。

技術領域

本發明涉及正火爐生產技術領域，尤其涉及一種等溫正火爐的爐溫控制系統。

背景技術

對于核電、化工、機械、鍋爐等行業生產的大型鍛件，要求其綜合性能越來越高，因此都需要進行熱處理，所以都配備大型熱處理爐。

如CN105200203A現有技術公開了一種一體式正火爐，存在進料和出料困難的問題，同時還影響了物料的加熱溫度，影響了加工質量。另一種典型的如CN207294848U的現有技術公開的一種爐溫控制系統，溫控加溫過程中溫控過程的不穩定性，可控制性差且其溫差的僅僅是局部調整，對金屬工件的淬透性及其不利。再來看如ZL 2008201163260的現有技術的一種熱回收型連續等溫正火爐，其雖然提供了利用緩冷段的余熱回收利用對新近物料進行預熱的技術解決方案，并且取得了減少熱損、節省能耗的一定效果。但上述方案仍存在較大不完善之處，尤其表現在對于高溫工件的急速冷卻仍耗能較大，且直接引入外部冷空氣進行急速降溫，不能滿足不同工件不同的冷卻要求，而使工件的組織和力學性能都難以達到理想狀態，嚴重時甚至影響空冷淬火效果。

為了解決本領域普遍存在進出料困難、溫度可控性差和淬火效果不佳等等問題，作出了本發明。

發明內容

本發明的目的在于，針對目前正火爐的爐溫控制所存在的不足，提出了一種等溫正火爐的爐溫控制系統。

為了克服現有技術的不足，本發明采用如下技術方案：

一種等溫正火爐的爐溫控制系統，包括上料裝置、預熱裝置、噴霧裝置、二次加熱裝置和控制器，所述上料裝置設置在所述預熱裝置的一側，所述噴霧裝置設置在所述預熱裝置的另一側，所述噴霧裝置遠離所述預熱裝置的一側設有所述二次加熱裝置，所述上料裝置、所述預熱裝置、所述噴霧裝置和所述二次加熱裝置內均設有運輸裝置，所述上料裝置、所述預熱裝置、所述噴霧裝置、所述二次加熱裝置依次排列形成生產線，所述上料裝置、所述預熱裝置、所述噴霧裝置、所述二次加熱裝置和所述運輸裝置分別與所述控制器控制連接。

可選的，所述上料裝置包括均溫罩、檢測裝裝置和第一運輸裝置，所述均溫罩設置在所述第一運輸裝置正上方，所述第一運輸裝置包括側框和運輸帶，所述檢測裝置設置在所述側框上并朝著所述運輸帶的一側伸出。

可選的，所述噴霧裝置包括噴霧室、若干個噴嘴、噴嘴架、第二運輸裝置和加熱爐，所述第二運輸裝置貫穿所述噴霧裝置的噴霧室，所述加熱爐通過管道與各個所述噴嘴連接，各個所述噴嘴設置在所述噴嘴架上，所述噴嘴架設有滑動槽，各個所述噴嘴的外周設有滑動輪并與所述滑動槽滑動連接，各個所述噴嘴與所述滑動槽滑動卡接并沿著所述滑動槽的長度方向進行滑動，各個所述噴嘴等間距的設置在所述滑動槽內。

可選的，所述二次加熱裝置包括柜體、若干個燒嘴、第三運輸裝置、轉動裝置、加熱爐和往復裝置，所述第三運輸裝置貫穿所述二次加熱裝置的柜體，各個所述燒嘴、所述轉動裝置和往復裝置分別設置在所述第三運輸裝置的正上方，各個所述燒嘴與所述轉動裝置固定連接，所述往復裝置包括檢測傳感器、檢測軌道和驅動機構，各個所述檢測傳感器與所述檢測軌道滑動連接，所述檢測傳感器靠近所述檢測軌道的一側設有支撐座，所述支撐座內設有所述驅動機構，所述支撐座與所述檢測軌道驅動連接。

可選的，所述噴霧裝置還包括若干個位置檢測元件，所述位置檢測元件沿著所述滑動槽的長度方向等間距的設置，各個所述檢測元件的檢測端口朝著各個所述噴嘴的一側伸出。