[發明專利]光學成像系統

在審

• 申請號: 201911419010.8
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN110966960A
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發明（設計）人: 劉充;呂鍵;李四維;陳光磊;黃伯源;席文帥;李明明
• 申請（專利權）人: 廣東省航空航天裝備技術研究所
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24;G06T17/00;G06T7/50
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 黃麗

1.一種光學成像系統，其特征在于，包括：

出光模塊，包括耦合器，所述耦合器用于發出多束相干光并將所述多束相干光投射至待測物體；

采集模塊，用于采集待測物體被所述多束相干光照射后的干涉圖像；及

重構模塊，與所述采集模塊電連接，用于根據所述干涉圖像重構所述待測物體的三維輪廓。

2.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述重構模塊包括：

第一獲取單元，用于獲取所述干涉圖像的每個待測點的深度；

第二獲取單元，用于獲取所述干涉圖像的每個待測點在所述干涉圖像上的二維坐標；及

重構單元，用于對所述干涉圖像的每個待測點的深度及所述干涉圖像的每個待測點在所述干涉圖像上的二維坐標進行計算，以重構所述待測物體的三維輪廓。

3.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述第一獲取單元包括：

選取單元，用于選取所述干涉圖像上的任意一待測點作為參考點；

第一計算單元，用于計算最靠近所述參考點的兩個光斑點之間的距離；

第二計算單元，用于計算所述干涉圖像上最靠近每個待測點的兩個光斑點之間的距離；

第三計算單元，用于根據所述最靠近所述參考點的兩個光斑點之間的距離及所述干涉圖像上最靠近每個待測點的兩個光斑點之間的距離計算得到該點的深度。

4.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述出光模塊還包括光源，所述光源用于發出相干光；所述耦合器一端與所述光源連接，另一端作為所述多束相干光的輸出端面。

5.根據權利要求4所述的光學成像系統，其特征在于，所述光源包括半導體激光器。

6.根據權利要求4所述的光學成像系統，其特征在于，所述耦合器遠離所述光源的一端包括多根光纖。

7.根據權利要求6所述的光學成像系統，其特征在于，所述耦合器遠離所述光源一端的多根光纖的尺寸相同。

8.根據權利要求4所述的光學成像系統，其特征在于，所述采集模塊設置于所述耦合器遠離所述光源的一端。

9.根據權利要求8所述的光學成像系統，其特征在于，所述采集模塊包括攝像頭。

10.根據權利要求9所述的光學成像系統，其特征在于，所述攝像頭上設置有光學濾波片。