[發(fā)明專利]醫(yī)用含銅復(fù)合涂層及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911418497.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111041433B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉恒全;劉忍;潘長(zhǎng)江;李林;劉堯?yàn)?/a> | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 成都邁德克科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司: | 成都希盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51226 | 代理人: | 廖文麗;柯海軍 |
| 地址: | 610000 四川省成都市高新*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 醫(yī)用 復(fù)合 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.醫(yī)用含銅復(fù)合涂層,其特征在于,所述醫(yī)用含銅復(fù)合涂層中包含銅、鈦、氮三種元素形成的中間相或化合物,所述涂層的含銅量為大于10wt%且不超過(guò)60wt%;
所述醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的X射線衍射圖中表現(xiàn)出個(gè)4個(gè)特征衍射峰:Cu2Ti(131)、CuN3(202)、TiN(111)、TiN(200);
所述醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的組織均勻,所述涂層的厚度為30~300nm;
所述醫(yī)用含銅復(fù)合涂層采用如下方法制備得到:
A.在0.8~2.0Pa的氬氣氣氛下起輝,再將氣壓穩(wěn)定在1~1.5Pa,只通氬氣濺射沉積到基底上,所述濺射沉積的功率為40~100W,所述濺射沉積的基體偏壓40-100V;
B.再通入氮?dú)猓{(diào)節(jié)氮?dú)夂蜌鍤饬髁渴沟獨(dú)灞?:8~1:1,開(kāi)啟高純銅靶、高純鈦靶后繼續(xù)濺射沉積10~40min到基底上,且Cu的濺射功率小于Ti的濺射功率,得到醫(yī)用含銅復(fù)合涂層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層,其特征在于,所述只通氬氣濺射沉積的時(shí)間為10min。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層,其特征在于,所述氮?dú)灞葹?:8。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層,其特征在于,所述基底為醫(yī)用不銹鋼、高純鈦、鈦合金、鎳鈦合金、純鐵、鎂合金。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層,其特征在于,所述A步驟先將基底在真空度6.0×10-4~1.0×10-3Pa下加熱到100℃~300℃,再通氬氣濺射沉積。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層,其特征在于,所述0.8~2.0Pa的氬氣氣氛的制備方法如下:
先將濺射腔室抽真空至6.0×10-4~1.0×10-3Pa,再通入氬氣,調(diào)節(jié)濺射腔室氣壓反濺10~20min,然后調(diào)節(jié)氬氣流量使濺射腔室內(nèi)的氣壓在0.8~2.0Pa,所述氬氣的純度為99.99%以上。
7.如權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于,所述醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的制備方法包括:
A.在0.8~2.0Pa的氬氣氣氛下起輝,再將氣壓穩(wěn)定在1~1.5Pa,只通氬氣濺射沉積到基底上,所述濺射沉積的功率為40~100W,所述濺射沉積的基體偏壓40-100V;
B.再通入氮?dú)猓{(diào)節(jié)氮?dú)夂蜌鍤饬髁渴沟獨(dú)灞?:8~1:1,開(kāi)啟高純銅靶、高純鈦靶后繼續(xù)濺射沉積10~40min到基底上,且Cu的濺射功率小于Ti的濺射功率,得到醫(yī)用含銅復(fù)合涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于,所述只通氬氣濺射沉積的時(shí)間為10min。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于,所述基底為醫(yī)用不銹鋼、高純鈦、鈦合金、鎳鈦合金、純鐵、鎂合金。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于,A步驟先將基底在真空度6.0×10-4~1.0×10-3Pa下加熱到100℃~300℃,再通氬氣濺射沉積。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于,所述0.8~2.0Pa的氬氣氣氛的制備方法如下:
先將濺射腔室抽真空至6.0×10-4~1.0×10-3Pa,再通入氬氣,調(diào)節(jié)濺射腔室氣壓反濺10~20min,然后調(diào)節(jié)氬氣流量使濺射腔室內(nèi)的氣壓在0.8~2.0Pa。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于,所述氮?dú)灞葹?:8。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的醫(yī)用含銅復(fù)合涂層的制備方法,其特征在于,所述氬氣的純度為99.99%以上。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





