[發明專利]采用DMD與液晶調制的曲面光刻方法有效
| 申請號： | 201911417378.0 | 申請日： | 2019-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN111077741B | 公開（公告）日： | 2021-09-24 |
| 發明（設計）人： | 孫秀輝;尹韶云;江海波;陳建軍;楊正;杜凱 | 申請（專利權）人： | 中國科學院重慶綠色智能技術研究院 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同恒源知識產權代理有限公司 11275 | 代理人： | 楊柳岸 |
| 地址： | 400714 *** | 國省代碼： | 重慶;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 采用 dmd 液晶 調制 曲面 光刻 方法 | ||
【權利要求書】：
1.采用DMD與液晶調制的曲面光刻方法，其特征在于：光源部分產生一個均勻照射的平行光束，DMD和液晶同時對入射的波前進行調制，最終通過投影鏡頭將圖形投影到曲面目標面上；
首先根據需要加工的曲面微結構，分解為曲面的面型參數和微結構的參數；然后表示為光束的空間分布表達式；
將空間分布表達式進行分解，分為振幅部分和相位部分；
其中，振幅部分通過DMD調制來實現；相位部分通過液晶調制來實現；
將得到的DMD和液晶的調制參數和投影鏡頭相結合，正向仿真計算，模擬在最終曲面上的曝光效果，然后根據最終需要的曲面微結構圖形進行反饋優化，得到最優的DMD和液晶調制參數，從而開始曝光。
2.根據權利要求1所述的采用DMD與液晶調制的曲面光刻方法，其特征在于：所述光源部分為：通過光闌和準直器，產生一個準直光束；通過起偏器，產生一個線偏振光束；然后通過勻化系統，產生一個均勻準直的光束；光束的均勻度≥96％，準直角度≤0.5°。
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