[發(fā)明專利]一種超細濕法研磨設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911412576.8
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111085306A
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 葛江峰;葛君
• 申請（專利權(quán)）人: 江陰鑫久機械制造有限公司
• 主分類號: B02C13/14
• 分類號: B02C13/14;B02C13/284
• 代理公司: 北京慕達星云知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11465
• 代理人: 曹鵬飛

1.一種超細濕法研磨設(shè)備，其特征在于，包括機架、兩個底座、研磨腔、電機、轉(zhuǎn)軸、多個V型攪拌桿組、多個擋板、篩網(wǎng)和兩個伸縮氣缸，

所述機架形成內(nèi)部空間；

兩個所述底座分別安裝在所述機架的底部兩端，且兩個所述底座支撐所述機架高于地面；

所述研磨腔設(shè)置在所述內(nèi)部空間，所述研磨腔靠近上部位置開設(shè)有進料口，所述研磨腔下部開設(shè)有出料口，所述出料口與所述機架外部連通；

所述電機安裝在所述機架頂部；

所述轉(zhuǎn)軸與所述電機傳動連接且由所述電機驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，所述轉(zhuǎn)軸延伸到所述研磨腔內(nèi)部；

多個所述V型攪拌桿組沿所述轉(zhuǎn)軸延伸方向分別對稱安裝在所述轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)；

多個所述擋板分別安裝在所述研磨腔內(nèi)壁的兩側(cè)，且所述擋板與所述V型攪拌桿組相對應(yīng)；

所述篩網(wǎng)設(shè)置在所述轉(zhuǎn)軸延伸端的下方，所述篩網(wǎng)的長度大于所述研磨腔的寬度；

兩個所述伸縮氣缸分別對稱安裝在所述機架的兩側(cè)，且兩個所述伸縮氣缸的伸縮桿延伸入所述研磨腔內(nèi)分別與所述篩網(wǎng)的兩端固定連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細濕法研磨設(shè)備，其特征在于，還包括散熱風(fēng)扇，所述散熱風(fēng)扇安裝在所述機架一側(cè)面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細濕法研磨設(shè)備，其特征在于，還包括電磁閥，所述電磁閥與所述伸縮氣缸連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細濕法研磨設(shè)備，其特征在于，還包括漏斗，所述漏斗安裝在所述出料口上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細濕法研磨設(shè)備，其特征在于，所述V型攪拌桿組包括上攪拌桿和下攪拌桿，所述上攪拌桿與所述下攪拌桿之間形成夾角；所述上攪拌桿具有多個通孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種超細濕法研磨設(shè)備，其特征在于，所述夾角范圍為30°-60°。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細濕法研磨設(shè)備，其特征在于，所述機架底部與地面之間的距離為20cm-30cm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細濕法研磨設(shè)備，其特征在于，所述篩網(wǎng)的細度為1.25um。