[發明專利]一種磁光測試裝置

在審

• 申請號: 201911410313.3
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111089851A
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發明（設計）人: 賈紅;常莎莎;劉紀玲
• 申請（專利權）人: 洛陽師范學院
• 主分類號: G01N21/63
• 分類號: G01N21/63;G01N21/17;G01N27/72
• 代理公司: 杭州知見專利代理有限公司 33295
• 代理人: 單燕君

1.一種磁光測試裝置，其特征在于：包括間隔設置的第一電極機構和第二電極機構，第一電極機構和第二電極機構之間具有形成磁場的容納空間，在該容納空間內設置有測試組合機構；測試組合機構包括測試基座和測試基座上的組件，測試基座可旋轉的固定在第一電極機構和第二電極機構之間，組件包括耦合光纖探頭、反射鏡和非球面鏡，耦合光纖探頭、反射鏡和非球面鏡呈品字形布置，并且形成由耦合光纖探頭引出經反射鏡反射后到達非球面鏡的光路，在非球面鏡的外側位于光路射出側設置有承載樣品的樣品托。

2.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：第一電極機構具有電極底座，電極底座上設置有水平調節機構，水平調節機構上設置有磁場電極，第二電極機構與第一電極機構對稱設置。

3.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：還包括裝置基座，第一電極機構、第二電極機構和測試組合機構均設置于裝置基座上。

4.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：測試基座包括固定基座和轉動基座，固定基座固定于第一電極機構和第二電極機構之間，轉動基座通過轉動結構可轉動地設置于固定基座上，耦合光纖探頭、反射鏡和非球面鏡均位于轉動基座上。

5.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：測試基座設置有耦合支架、反射支架和透射支架，耦合光纖探頭、反射鏡和非球面鏡分別設置于耦合支架、反射支架和透射支架上，耦合支架、反射支架和透射支架呈品字形布置，透射支架外側設置樣品架，樣品架上設置樣品托。

6.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：耦合光纖探頭連接有光纖組。

7.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：測試基座配合設置確定角度的刻度結構。

8.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：轉動結構為軸承結構。

9.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：轉動基座套設于固定基座上，固定基座頂部和轉動基座具有容納空間，在固定基座頂部設置有齒條，在轉動基座側壁開設有調節窗口，調節窗口內設置有與齒條配合的調節輪，調節輪一側與齒條配合，一側暴露于轉動基座側壁外；齒條上設置有主標尺，轉動基座上與標尺對應處開設有觀察窗口；轉動基座內頂部設置有輔標尺結構，輔標尺結構包括固定于轉動基座內頂部的轉軸，轉軸下部設置有與齒條內側配合的內齒輪，轉軸上部設置有標尺輪，標尺輪在內齒輪的帶動下同軸轉動；觀察窗口覆蓋所述標齒輪。

10.根據權利要求1所述的一種磁光測試裝置，其特征在于：固定基座下部設置有卡槽，轉動基座內壁設置有卡環，固定基座通過卡環和卡槽配合限制為一體。