[發(fā)明專利]圖譜關(guān)聯(lián)系統(tǒng)光譜偏置外場(chǎng)的自適應(yīng)校正方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911409099.X | 申請(qǐng)日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111044152B | 公開(公告)日: | 2020-11-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張?zhí)煨?/a>;戴旺卓;呂思曼;陳全;董帥;郭詩嘉;郭婷;蘇軒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué);武漢工程大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01J5/00 | 分類號(hào): | G01J5/00;G01J3/28 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖譜 關(guān)聯(lián) 系統(tǒng) 光譜 偏置 外場(chǎng) 自適應(yīng) 校正 方法 | ||
1.一種圖譜關(guān)聯(lián)系統(tǒng)光譜偏置外場(chǎng)的自適應(yīng)校正方法,其特征在于,包括:第一階段和第二階段;
所述第一階段包括:
將整個(gè)測(cè)量譜段劃分為若干譜段,獲得各個(gè)譜段內(nèi)所述圖譜關(guān)聯(lián)系統(tǒng)中光譜傳感器的系統(tǒng)輻射偏置隨溫度變化的變化模型后,綜合得到整個(gè)測(cè)量譜段內(nèi)系統(tǒng)輻射偏置隨溫度變化的變化模型b(λ″);
所述第二階段包括:
在任一測(cè)量時(shí)刻,獲得外場(chǎng)條件下的實(shí)時(shí)溫度t,代入所述變化模型b(λ″)后,得到所述光譜傳感器實(shí)際的系統(tǒng)輻射偏置bt(λ″),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)所述光譜傳感器的系統(tǒng)輻射偏置的自適應(yīng)校正;
在所述第一階段中,對(duì)于劃分得到的任意一個(gè)譜段[λm,λm+1],獲得該譜段內(nèi)所述系統(tǒng)輻射偏置隨溫度變化的變化模型,包括:
(S1)在室內(nèi)光學(xué)定標(biāo)環(huán)境下,利用所述光譜傳感器在不同測(cè)量溫度下,分別測(cè)量J個(gè)黑體的響應(yīng)值;J個(gè)黑體的溫度互不相同,J≥2;
(S2)對(duì)于每一個(gè)測(cè)量溫度Tk,對(duì)不同黑體的響應(yīng)值采用最小二乘法進(jìn)行擬合,從而得到測(cè)量溫度Tk下的系統(tǒng)輻射偏置和系統(tǒng)響應(yīng)函數(shù)k(λ);k∈{1,2,…K},K為測(cè)量溫度的總數(shù);
(S3)在獲得所有測(cè)量溫度所對(duì)應(yīng)的系統(tǒng)輻射偏置后,采用線性模型進(jìn)行擬合,得到所述系統(tǒng)輻射偏置隨溫度變化的變化模型為:b(λ)=d-aT,若a<0,則設(shè)置a=0,否則,a保持不變,最終得到譜段[λm,λm+1]內(nèi)系統(tǒng)輻射偏置隨溫度變化的變化模型b(λ′);d和a均為線性模型參數(shù),λm和λm+1分別為譜段的波長(zhǎng)下界和波長(zhǎng)上界。
2.如權(quán)利要求1所述的圖譜關(guān)聯(lián)系統(tǒng)光譜偏置外場(chǎng)的自適應(yīng)校正方法,其特征在于,所述步驟(S1)包括:
(S11)在室內(nèi)光學(xué)定標(biāo)環(huán)境下,對(duì)于任意一個(gè)黑體Blackj,在任意一個(gè)測(cè)量溫度Tk下,利用所述光譜傳感器測(cè)量黑體Blackj的n個(gè)響應(yīng)值DN1(Tk,Blackj)(λ)~DNn(Tk,Blackj)(λ),并進(jìn)行去噪處理,從而得到黑體Blackj在測(cè)量溫度Tk下的響應(yīng)值n為正整數(shù);
(S12)在每一個(gè)測(cè)量溫度下,分別執(zhí)行步驟(S11),從而得到黑體Blackj在各個(gè)測(cè)量溫度下的響應(yīng)值
(S13)對(duì)于每一個(gè)黑體,分別執(zhí)行步驟(S12),從而得到各個(gè)黑體在各個(gè)測(cè)量溫度下的響應(yīng)值。
3.如權(quán)利要求2所述的圖譜關(guān)聯(lián)系統(tǒng)光譜偏置外場(chǎng)的自適應(yīng)校正方法,其特征在于,所述步驟(S11)中,通過均值濾波處理或小波軟閾值濾波處理對(duì)n個(gè)響應(yīng)值DN1(Tk,Blackj)(λ)~DNn(Tk,Blackj)(λ)進(jìn)行去噪處理。
4.如權(quán)利要求1所述的圖譜關(guān)聯(lián)系統(tǒng)光譜偏置外場(chǎng)的自適應(yīng)校正方法,其特征在于,所述第二階段還包括:
在得到自適應(yīng)校正之后的系統(tǒng)輻射偏置bt(λ″)后,利用所述光譜傳感器獲得被測(cè)對(duì)象在實(shí)時(shí)溫度t下的響應(yīng)值DNtarger(λ,t),根據(jù)輻射校正公式計(jì)算所述被測(cè)對(duì)象的真實(shí)輻射亮度G(λ,t)。
5.如權(quán)利要求4所述的圖譜關(guān)聯(lián)系統(tǒng)光譜偏置外場(chǎng)的自適應(yīng)校正方法,其特征在于,所述第二階段還包括:
在獲得所述被測(cè)對(duì)象的真實(shí)輻射亮度G(λ,t)后,與所述被測(cè)對(duì)象的實(shí)際面積相乘,從而得到所述被測(cè)對(duì)象的輻射強(qiáng)度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華中科技大學(xué);武漢工程大學(xué),未經(jīng)華中科技大學(xué);武漢工程大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911409099.X/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 用于圖譜界面的數(shù)據(jù)處理方法及系統(tǒng)
- 用于內(nèi)容特征圖譜化的特征圖譜布局的服務(wù)器及介質(zhì)
- 圖譜的構(gòu)建方法及裝置、電子設(shè)備
- 信息圖譜構(gòu)建方法、裝置及設(shè)備
- 知識(shí)圖譜的完善方法及裝置、數(shù)據(jù)處理方法及裝置
- 一種知識(shí)圖譜的構(gòu)建方法、裝置、知識(shí)圖譜系統(tǒng)及設(shè)備
- 一種基于知識(shí)圖譜的故障判別推理方法
- 一種事件圖譜的匹配方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種用于創(chuàng)建知識(shí)圖譜的計(jì)算機(jī)設(shè)備
- 一種支持增量實(shí)體關(guān)聯(lián)的關(guān)系圖譜計(jì)算方法
- 關(guān)聯(lián)裝置
- 數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)裝置和數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)方法
- 安全關(guān)聯(lián)
- 設(shè)備關(guān)聯(lián)
- 終端關(guān)聯(lián)裝置和終端關(guān)聯(lián)方法
- 關(guān)聯(lián)方法和關(guān)聯(lián)設(shè)備
- 關(guān)聯(lián)方法和關(guān)聯(lián)設(shè)備
- 關(guān)聯(lián)方法和關(guān)聯(lián)設(shè)備
- 關(guān)聯(lián)分析方法和關(guān)聯(lián)分析系統(tǒng)
- 報(bào)文關(guān)聯(lián)方法、報(bào)文關(guān)聯(lián)裝置及報(bào)文關(guān)聯(lián)系統(tǒng)





