[發明專利]一種激光拋光設備

有效

• 申請號: 201911408375.0
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111112840B
• 公開（公告）日: 2022-02-22
• 發明（設計）人: 田勁松
• 申請（專利權）人: 蘇州協同創新智能制造裝備有限公司
• 主分類號: B23K26/352
• 分類號: B23K26/352;B23K26/12;B23K26/70
• 代理公司: 無錫義海知識產權代理事務所(普通合伙) 32247
• 代理人: 宋俊華

本發明公開了一種激光拋光設備，包括機架，以及設置在機架上的上料裝置、激光拋光裝置、下料裝置和氬氣供應裝置，上料裝置和下料裝置分別位于激光拋光裝置的兩側；激光拋光裝置包括拋光密封工作室，以及設置拋光密封工作室內的雙軸變位機和激光振鏡，上料裝置包括上料密封工作室，以及設置在上料密封工作室內的上料驅動機構、上料電動門一和上料電動門二；下料裝置包括下料密封工作室，以及設置在下料密封工作室內的下料驅動機構、下料電動門一和下料電動門二，氬氣供應裝置用于為拋光密封工作室、上料密封工作室和下料密封工作室內提供氬氣。本發明一種激光拋光設備，其結構合理，有效隔離外界空氣的干擾，提高了氬氣保護的效果。

技術領域

本發明涉及一種激光拋光設備。

背景技術

激光拋光技術是伴隨著激光技術的發展而出現的一種對新型材料表面進行處理的技術，它通過采用激光光束掃描加工工件表面，利用激光與材料之間的相互作用，去掉工件表面多余物質，從而形成光滑平面。目前，傳統的激光拋光設備大多會在氬氣保護氣氛下對工件進行激光拋光，但是，現有的激光拋光設備在對工件進行上料和下料的過程中，外界的空氣會進入拋光工作室從而會影響氬氣保護的效果。

發明內容

本發明的目的在于提供一種激光拋光設備，其結構合理，有效隔離外界空氣的干擾，提高了氬氣保護的效果。

為實現上述目的，本發明的技術方案是設計一種激光拋光設備，包括機架，以及設置在機架上的上料裝置、激光拋光裝置、下料裝置和氬氣供應裝置，所述上料裝置和下料裝置分別位于激光拋光裝置的兩側；

所述激光拋光裝置包括拋光密封工作室，以及設置拋光密封工作室內的雙軸變位機和激光振鏡，所述雙軸變位機包括回轉工作臺，該回轉工作臺上設有第一安裝槽，該第一安裝槽中安裝有通電后可產生磁性的第一電磁吸塊；

所述上料裝置包括上料密封工作室，以及設置在上料密封工作室內的上料驅動機構、上料電動門一和上料電動門二，所述上料密封工作室的頂部設有上料口一，所述上料電動門一用于打開或封閉上料口一，所述上料密封工作室的一端延伸至拋光密封工作室內并設有上料口二，所述上料電動門二用于打開或封閉上料口二，所述上料驅動機構包括上料基板、設置在上料基板側部的上料導軌，以及滑動連接于上料導軌的上料平移板，該上料平移板的側部設有上料板，該上料板的上表面與回轉工作臺的上表面齊平，且該上料板上設有第二安裝槽，該第二安裝槽中安裝有通電后可產生磁性的第二電磁吸塊；

所述下料裝置包括下料密封工作室，以及設置在下料密封工作室內的下料驅動機構、下料電動門一和下料電動門二，所述下料密封工作室的一端延伸至拋光密封工作室內并設有下料口一，所述下料電動門一用于打開或封閉下料口一，所述下料密封工作室的頂部設有下料口二，所述下料電動門二用于打開或封閉下料口二，所述下料驅動機構包括下料基板、設置在下料基板側部的下料導軌，以及滑動連接于下料導軌的下料平移板，該下料平移板的側部設有下料板，該下料板的上表面與回轉工作臺的上表面齊平，且該下料板上設有第三安裝槽，該第三安裝槽中安裝有通電后可產生磁性的第三電磁吸塊；

所述氬氣供應裝置包括用于為拋光密封工作室、上料密封工作室和下料密封工作室內提供氬氣的氣罐，所述拋光密封工作室上設有第一氬氣入口，所述上料密封工作室上設有第二氬氣入口，所述下料密封工作室上設有第三氬氣入口，所述氣罐分別通過管道與第一氬氣入口、第二氬氣入口和第三氬氣入口連接；

所述激光拋光設備還包括電動門控制器，所述上料電動門一、上料電動門二、下料電動門一和下料電動門二分別與電動門控制器電性連接。

優選的，所述上料基板與上料密封工作室的內壁固定連接，該上料基板延伸至上料口二處，所述上料電動門二設有用于避讓上料基板的避讓缺口。

優選的，所述下料基板與下料密封工作室的內壁固定連接，該下料基板延伸至下料口一處，所述下料電動門一設有用于避讓下料基板的避讓缺口。