[發明專利]一種等離子體刻蝕殘留物清洗液

在審

• 申請號: 201911407714.3
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN113130292A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發明（設計）人: 肖林成;劉兵;彭洪修;張維棚;趙鵬
• 申請（專利權）人: 安集微電子科技（上海）股份有限公司
• 主分類號: H01L21/02
• 分類號: H01L21/02;H01L21/311;C09K13/00
• 代理公司: 北京大成律師事務所 11352
• 代理人: 李佳銘;王芳

1.一種等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，包括氧化劑、pH調節劑、穩定劑、有機酸銨鹽、金屬緩蝕劑、以及水。

2.如權利要求1所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述氧化劑的質量濃度為0.1wt％-30wt％。

3.如權利要求1所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述氧化劑為H₂O₂、N-甲基嗎啉氧化物、過氧化苯甲酰、過氧單硫酸四丁銨、臭氧、高錳酸、高氯酸、碘酸、高碘酸、過硫酸、過氧二硫酸銨、過乙酸、過氧化脲、硝酸、次氯酸銨、氯酸銨、碘酸銨、高氯酸銨、高碘酸銨、亞氯酸四甲銨、氯酸四甲銨、碘酸四甲銨、過硼酸四甲銨、高氯酸四甲銨、高碘酸四甲銨、過硫酸四甲銨、過氧乙酸、過氧苯甲酸、四氧嘧啶中的一種或多種。

4.如權利要求3所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述氧化劑為H₂O₂。

5.如權利要求1所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述有機酸銨鹽的質量濃度為0.01wt％-50wt％。

6.如權利要求1所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述有機酸銨鹽為甲酸銨、草酸銨、乳酸銨、酒石酸銨、檸檬酸三銨、乙酸銨、氨基甲酸銨、碳酸銨、苯甲酸銨、乙二胺四乙酸四銨、乙二胺四乙酸三銨、乙二胺四乙酸二銨、琥珀酸銨、1-H-吡唑-3-甲酸銨、丙二酸銨、己二酸銨、亞氨基二乙酸銨中的一種或多種。

7.如權利要求1所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述pH調節劑的質量濃度為0.1wt％-20wt％。

8.如權利要求1所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述pH調節劑為堿性調節劑。

9.如權利要求8所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述pH調節劑為季胺氫氧化物、有機胺、有機醇胺中的一種或多種。

10.如權利要求9所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述季胺氫氧化物為四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、三甲基苯基氫氧化銨、芐基三甲基氫氧化銨、芐基三乙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、四丁基氫氧化磷、膽堿氫氧化物、氫氧化銨、十二烷基三甲基氫氧化銨、十六烷基三甲基氫氧化銨中的一種或多種。

11.如權利要求9所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述有機胺為單乙胺、二乙胺、三乙胺、三丙胺、N'N-二乙基乙二胺、羥乙基乙二胺、環己胺、1,2-丙二胺、五甲基二乙烯三胺中的一種或多種。

12.如權利要求9所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述有機醇胺為單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、N-甲基乙醇胺中的一種或多種。

13.如權利要求9所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述pH調節劑為金屬離子含量小于50ppb的堿性pH調節劑。

14.如權利要求1所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述穩定劑的質量濃度為0.05-1000ppm。

15.如權利要求14所述的等離子體刻蝕殘留物清洗液，其特征在于，所述穩定劑的質量濃度為0.1-100ppm。