[發(fā)明專利]一種化學(xué)機(jī)械拋光液

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911403893.3
• 申請(qǐng)日: 2019-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN113122144A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃悅銳;姚穎;荊建芬;倪宇飛;馬健;楊俊雅;汪國(guó)豪;李恒;陸弘毅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號(hào): C09G1/02
• 分類號(hào): C09G1/02
• 代理公司: 北京大成律師事務(wù)所 11352
• 代理人: 李佳銘;王芳

1.一種化學(xué)機(jī)械拋光液，包括研磨顆粒、金屬腐蝕抑制劑、絡(luò)合劑、氧化劑、非離子表面活性劑和水，所述非離子表面活性劑為乙氧基化丁氧基化烷基醇。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述乙氧基化丁氧基化烷基醇中，乙氧基數(shù)x為5-20，丁氧基數(shù)y為5-20，烷基為碳原子數(shù)11-15的直鏈或支鏈烷基。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述非離子表面活性劑的質(zhì)量百分比濃度為0.001～0.2％。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述非離子表面活性劑的質(zhì)量百分比濃度為0.005～0.1％。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述研磨顆粒為二氧化硅。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述研磨顆粒的質(zhì)量百分比濃度為3～20％。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述金屬腐蝕抑制劑為唑類化合物。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述金屬腐蝕抑制劑選自苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1，2，4-三氮唑、5-甲基-四氮唑、5-氨基-四氮唑、5-苯基四氮唑、巰基苯基四氮唑、苯并咪唑、萘并三唑、2-巰基-苯并噻唑中的一種或多種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述金屬腐蝕抑制劑的質(zhì)量百分比濃度為0.005～0.5％。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述絡(luò)合劑選自有機(jī)酸、有機(jī)胺中的一種或多種。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述有機(jī)酸選自草酸、丙二酸、丁二酸、檸檬酸、酒石酸、甘氨酸、丙氨酸、氨三乙酸、2-膦酸基丁烷-1，2，4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、氨基三亞甲基膦酸、羥基亞乙基二膦酸、乙二胺四亞甲基膦酸、2-羥基膦酸基乙酸、二乙烯三胺五亞甲基膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、乙二胺四乙酸中的一種或多種；

所述有機(jī)胺選自乙二胺、三乙醇胺中的一種或多種。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述絡(luò)合劑的質(zhì)量百分比濃度為0.01～2％。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑為過氧化氫。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑的質(zhì)量百分比濃度為0.05～1％。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械拋光液，其特征在于，

所述化學(xué)機(jī)械拋光液的pH為8～12。