[發明專利]一種高純硫化銻的制備方法有效
| 申請號: | 201911403754.0 | 申請日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN111115684B | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發明(設計)人: | 戴衛平;陳巍;鄭春陽;韓龍;李建國;宋春麗;陳浩;馬祥亞 | 申請(專利權)人: | 昆明鼎邦科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C01G30/00 | 分類號: | C01G30/00 |
| 代理公司: | 深圳市君勝知識產權代理事務所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;劉文求 |
| 地址: | 650033 云南省昆明市五華區學*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高純 硫化銻 制備 方法 | ||
1.一種高純硫化銻的制備方法,其特征在于,包括步驟:
將硫化銻精礦或低純硫化銻置于真空爐中,在溫度為900~1200℃,真空度為5~50Pa條件下進行第一次蒸餾,在此溫度下,沸點低于硫化銻的雜質以及硫化銻同時揮發,高沸點的雜質不揮發,通過控制真空蒸餾和冷凝的條件,收集得到僅含低沸點雜質的硫化銻,所述含低沸點雜質的硫化銻為Sb2S3、Sb、S以及低沸點雜質;揮發物冷凝的條件為冷凝距離30~100cm,冷凝溫度100~250℃;
將所述含低沸點雜質的硫化銻置于真空爐中,并配入硫磺,常壓下在第二溫度條件下將收集得到的硫化銻進行勻化和再合成,然后在真空條件下進行第二次蒸餾進行除雜,在此溫度下,沸點低于硫化銻的雜質揮發而硫化銻不揮發,得到高純硫化銻;
所述第二溫度為560~600℃,常壓下完成物料的勻化后,抽真空至真空度為5~50Pa,在630~700℃進行二次除雜;
其中,所述低純硫化銻的制備為銻合金經過硫磺硫化后制得,其步驟包括:
將銻合金顆粒與硫磺混合加熱至300~700℃進行硫化,制得低純硫化銻;或者將銻合金加熱融化后,再通入硫蒸汽進行硫化,制得低純硫化銻;或將銻顆粒和硫磺混合后放入無氧密閉容器中,升溫至320-400℃并攪拌,使所述銻顆粒與所述硫磺發生第一階段反應;在無氧及攪拌條件下繼續升溫至550-650℃制得低純硫化銻;
所述低純硫化銻的成分包括Sb2S3、S、Sb、In、Cu、As、Pb、Bi、As2S3、Sb2S3、PbS、ZnS、Cu2S和FeS;
所述硫化銻精礦的成分包括Sb2S3、As2S3、S、Sb2O3、PbS、FeS、ZnS和脈石成份;
所述高純硫化銻的純度大于99.9%。
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