[發明專利]描跡曲線編輯方法、裝置、超聲診斷設備及可讀存儲介質

有效

• 申請號: 201911402865.X
• 申請日: 2019-12-30
• 公開（公告）號: CN111145890B
• 公開（公告）日: 2023-10-24
• 發明（設計）人: 黃如龍;黎英云
• 申請（專利權）人: 深圳開立生物醫療科技股份有限公司
• 主分類號: G16H40/60
• 分類號: G16H40/60;G06F3/0481
• 代理公司: 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285
• 代理人: 王兆林

1.一種描跡曲線編輯方法，其特征在于，包括：

接收到描跡曲線的編輯指令后，使所述描跡曲線進入編輯狀態，對光標位置進行實時跟蹤；

以所述光標位置為第一參考點，基于所述第一參考點利用擬合技術，將所述描跡曲線上的目標曲線段實時擬合為調整曲線段，并在所述超聲圖像上顯示，所述調整曲線段跟隨所述光標位置實時變化；

接收到停止指令后，停止所述調整曲線段的實時變化。

2.根據權利要求1所述的描跡曲線編輯方法，其特征在于，在停止所述調整曲線段的實時變化之后，還包括：

根據編輯管理指令，對所述調整曲線段進行管理。

3.根據權利要求2所述的描跡曲線編輯方法，其特征在于，所述編輯管理指令，包括：

暫存指令，用于保留所述調整曲線段，將所述描跡曲線的所述目標曲線段替換為所述調整曲線段以使生成目標描跡曲線，并使所述目標描跡曲線再次進入編輯狀態；

確定指令，用于將所述描跡曲線的所述目標曲線段替換為所述調整曲線段以生成目標描跡曲線，并退出編輯狀態；

取消指令，用于刪除所述調整曲線段并使所述描跡曲線再次進入編輯狀態。

4.根據權利要求3所述的描跡曲線編輯方法，其特征在于，在所述生成目標描跡曲線之后，還包括：

以不同的線型同時顯示所述目標描跡曲線和所述描跡曲線；

或，將所述描跡曲線替換顯示為所述目標描跡曲線。

5.根據權利要求1所述的描跡曲線編輯方法，其特征在于，在所述對光標位置進行實時跟蹤之前，還包括：

根據用戶操作行為，從所述超聲圖像中的多條描跡曲線中選定所述描跡曲線。

6.根據權利要求1所述的描跡曲線編輯方法，其特征在于，還包括：

再次接收到所述編輯指令時，判斷是否所述光標位置指定范圍內是否存在所述調整曲線段；

如果否，則以所述光標位置為所述第一參考點；

如果是，則以所述光標位置為所述調整曲線段對應的第二參考點；基于所述第二參考點利用擬合技術，將所述調整曲線段實時擬合為重整曲線段；根據再次接收到的所述編輯管理指令，對所述重調整曲線段進行管理。

7.根據權利要求1至6任一項所述的描跡曲線編輯方法，其特征在于，所述基于所述第一參考點利用擬合技術，將所述描跡曲線上的目標曲線段實時擬合為調整曲線段，包括：

獲取所述描跡曲線上與所述第一參考點距離最近的第一頂點，根據預設參數獲取所述描跡曲線上所述第一頂點兩側的控制點和連接點，以所述描跡曲線上位于所述連接點之間的曲線段作為所述目標曲線段，利用所述第一參考點、所述控制點和所述連接點將所述目標曲線段擬合為所述調整曲線段。

8.根據權利要求7所述的描跡曲線編輯方法，其特征在于，還包括：

結合預設對應關系，根據所述第一參考點與所述第一頂點的距離，實時修改所述預設參數。

9.根據權利要求7所述的描跡曲線編輯方法，其特征在于，還包括：

判斷所述光標位置在所述描跡曲線內側或外側，以根據判斷結果確定所述預設參數為第一預設值或第二預設值。

10.一種描跡曲線編輯裝置，其特征在于，包括：

光標跟蹤模塊，用于接收到描跡曲線的編輯指令后，使所述描跡曲線進入編輯狀態，對光標位置進行實時跟蹤；

實時擬合調整模塊，用于以所述光標位置為第一參考點，基于所述第一參考點利用擬合技術，將所述描跡曲線上的目標曲線段實時擬合為調整曲線段，并在所述超聲圖像上顯示，所述調整曲線段跟隨所述光標位置實時變化；

調整停止模塊，用于接收到停止指令后，停止所述調整曲線段的實時變化。