[發(fā)明專利]一種具有高準(zhǔn)確率的隨鉆井漏主動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911397888.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110924938B | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊孛;伍翊嘉;趙磊;趙輝;任興國(guó);戴勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)石油集團(tuán)川慶鉆探工程有限公司;中國(guó)石油天然氣集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | E21B47/11 | 分類號(hào): | E21B47/11;E21B47/113;E21B47/013 |
| 代理公司: | 成都中璽知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51233 | 代理人: | 安宇宏;邢偉 |
| 地址: | 610051 四川省*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 準(zhǔn)確率 鉆井 主動(dòng) 檢測(cè) 系統(tǒng) | ||
1.一種具有高準(zhǔn)確率的隨鉆井漏主動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括導(dǎo)電指示性添加劑隨鉆檢測(cè)井漏裝置、放射性指示劑隨鉆檢測(cè)井漏裝置和綜合比較單元,其中,
所述導(dǎo)電指示性添加劑隨鉆檢測(cè)井漏裝置包括第一實(shí)時(shí)檢測(cè)單元、第一添加劑供給單元和第一井漏判定單元,其中,
所述第一實(shí)時(shí)檢測(cè)單元包括分別設(shè)置在鉆具上并伴隨鉆頭行進(jìn)的第一、二、三和四導(dǎo)電性探頭,其中,第一、二、三和四導(dǎo)電性探頭能夠分別相應(yīng)地實(shí)時(shí)測(cè)量第一、二、三和四側(cè)向位置,對(duì)應(yīng)得到第一、二、三和四電阻數(shù)據(jù),第一、二側(cè)向位置與所述鉆頭之間的距離相等并且所述第一側(cè)向位置與鉆具的中心線的距離小于第二側(cè)向位置與所述中心線的距離,第三、四側(cè)向位置與所述鉆頭之間的距離相等并且所述第三側(cè)向位置與鉆具的中心線的距離小于第四側(cè)向位置與所述中心線的距離,第一側(cè)向位置與所述鉆頭之間的距離小于第三導(dǎo)電性探頭與所述鉆頭之間的距離,第一、三側(cè)向位置與所述中心線的距離相等,并且第二、四側(cè)向位置與所述中心線的距離相等;
所述第一添加劑供給單元能夠?qū)?dǎo)電指示性添加劑加入鉆井液中;
所述第一井漏判定單元接收所述第一實(shí)時(shí)檢測(cè)單元的第一、二、三和四導(dǎo)電性探頭的第一、二、三和四電阻數(shù)據(jù),并通過各個(gè)深度點(diǎn)的第一、二、三和四電阻數(shù)據(jù),判斷得出第一目標(biāo)漏失層;
所述放射性指示劑隨鉆檢測(cè)井漏裝置包括第二實(shí)時(shí)檢測(cè)單元、第二添加劑供給單元和第二井漏判定單元,其中,
所述第二實(shí)時(shí)檢測(cè)單元包括分別設(shè)置在鉆具上并伴隨鉆頭行進(jìn)的第一放射性探頭和第二放射性探頭,所述第一、二放射性探頭能夠分別相應(yīng)地實(shí)時(shí)測(cè)量第一位置和第二位置,對(duì)應(yīng)得到第一放射性數(shù)據(jù)和第二放射性數(shù)據(jù),所述第一位置與所述鉆頭之間的距離小于第二位置與所述鉆頭之間的距離;
所述第二添加劑供給單元能夠?qū)⒎派湫灾甘拘蕴砑觿┘尤脬@井液中;
所述第二井漏判定單元接收所述第二實(shí)時(shí)檢測(cè)單元的第一、二放射性探頭的第一、二放射性數(shù)據(jù),并通過各個(gè)深度點(diǎn)的第一和二放射性數(shù)據(jù),判斷得出第二目標(biāo)漏失層;
所述綜合比較單元接收第一井漏判定單元提供的第一目標(biāo)漏失層的信息,并接收第二井漏判定單元提供的第二目標(biāo)漏失層的信息,經(jīng)綜合比較后,給出更加準(zhǔn)確的目標(biāo)漏失層信息;
所述第一井漏判定單元通過式1計(jì)算第一目標(biāo)漏失層的井漏級(jí)別參數(shù),
所述式1為:
其中,k(xD)為深度點(diǎn)D的第一井漏級(jí)別判斷參數(shù),x1D=lnR1,x3D=lnR3,R1和R3分別為深度點(diǎn)D的第一、三電阻數(shù)據(jù),TD為第一、三導(dǎo)電性探頭經(jīng)過深度點(diǎn)D時(shí)間差的絕對(duì)值,α為第一體積轉(zhuǎn)換系數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高準(zhǔn)確率的隨鉆井漏主動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,在所述導(dǎo)電指示性添加劑為電阻大于地層平均電阻的低導(dǎo)電指示性添加劑的情況下,所述第一目標(biāo)漏失層中的每個(gè)深度點(diǎn)的第一、二、三和四電阻數(shù)據(jù)均滿足:第一電阻數(shù)據(jù)為異常高值同時(shí)第二電阻數(shù)據(jù)為正常值,并且第三電阻數(shù)據(jù)為異常高值,第四電阻數(shù)據(jù)為異常高值或正常值,所述異常高值高于所述正常值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高準(zhǔn)確率的隨鉆井漏主動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,在所述導(dǎo)電指示性添加劑為電阻小于地層平均電阻的高導(dǎo)電指示性添加劑的情況下,所述第一目標(biāo)漏失層中的每個(gè)深度點(diǎn)的第一、二、三和四電阻數(shù)據(jù)均滿足:第一電阻數(shù)據(jù)為異常低值同時(shí)第二電阻數(shù)據(jù)為正常值,并且第三電阻數(shù)據(jù)為異常低值,第四電阻數(shù)據(jù)為異常低值或正常值,且異常低值小于所述正常值。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高準(zhǔn)確率的隨鉆井漏主動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述第一井漏判定單元通過式2確定第一目標(biāo)漏失層的井漏位置,
所述式2為:
Hk=P-L
其中,第一目標(biāo)漏失層的井漏位置為Hk,P為當(dāng)前鉆進(jìn)位置,L為第三導(dǎo)電性探頭到鉆頭的距離。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)石油集團(tuán)川慶鉆探工程有限公司;中國(guó)石油天然氣集團(tuán)有限公司,未經(jīng)中國(guó)石油集團(tuán)川慶鉆探工程有限公司;中國(guó)石油天然氣集團(tuán)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911397888.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 提高搜索準(zhǔn)確率的方法和裝置
- 改良對(duì)焦準(zhǔn)確率的鏡頭及其攝像裝置
- 測(cè)量數(shù)據(jù)處理準(zhǔn)確性方法和系統(tǒng)以及數(shù)據(jù)處理方法和系統(tǒng)
- 語(yǔ)音控制準(zhǔn)確率調(diào)整方法和系統(tǒng)
- 高準(zhǔn)確率的氣密檢測(cè)裝置
- 校正準(zhǔn)確率高的振動(dòng)盤
- 標(biāo)注準(zhǔn)確率評(píng)估方法及裝置
- 校正準(zhǔn)確率高的振動(dòng)盤
- 高準(zhǔn)確率激光測(cè)距儀
- 點(diǎn)鈔準(zhǔn)確率改進(jìn)的點(diǎn)鈔機(jī)
- 主動(dòng)元件及主動(dòng)元件陣列基板
- 主動(dòng)降噪系統(tǒng)、主動(dòng)降噪耳機(jī)及主動(dòng)降噪方法
- 主動(dòng)定位方法及主動(dòng)定位系統(tǒng)
- 主動(dòng)降噪系統(tǒng)及主動(dòng)降噪耳機(jī)
- 主動(dòng)清除系統(tǒng)和主動(dòng)清除方法
- 主動(dòng)筆控制方法及主動(dòng)筆
- 筆尖、主動(dòng)筆和主動(dòng)筆系統(tǒng)
- 主動(dòng)降噪耳機(jī)和主動(dòng)降噪方法
- 主動(dòng)導(dǎo)管及主動(dòng)導(dǎo)管系統(tǒng)
- 主動(dòng)降噪算法及主動(dòng)降噪耳機(jī)





