[發(fā)明專利]懸空光波導(dǎo)及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911394401.9 | 申請日: | 2019-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN111061009B | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭宇;張中;黎雄;張正友 | 申請(專利權(quán))人: | 騰訊科技(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/13 | 分類號: | G02B6/13;G02B6/122 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 王娟 |
| 地址: | 518057 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 懸空 波導(dǎo) 及其 制備 方法 | ||
1.一種懸空光波導(dǎo)的制備方法,包括:
通過第一輔助層在第一方向上提供第一間隔,并在所述第一間隔中形成光限制層;
通過第二輔助層在所述光限制層上在所述第一方向上提供第二間隔,并在所述第二間隔中形成光傳輸層,其中,在所述第一方向上,所述第二間隔位于所述第一間隔的邊緣的內(nèi)側(cè);
去除所述第一輔助層和所述第二輔助層;
在所述光限制層上形成支撐層,所述支撐層與所述光傳輸層位于所述光限制層的同一側(cè)且在所述第一方向上位于所述光傳輸層的兩側(cè),所述支撐層的厚度大于所述光傳輸層的厚度,
其中,所述光限制層的折射率小于所述光傳輸層的折射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,還包括:將所述光限制層、所述光傳輸層和所述支撐層轉(zhuǎn)移至支撐基板上,且所述光限制層的形成有所述光傳輸層和所述支撐層的一側(cè)面對所述支撐基板,所述光傳輸層的面對所述支撐基板的一側(cè)和所述支撐基板之間具有間隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其中,所述第一間隔和所述第二間隔均具有沿與所述第一方向垂直的第二方向延伸的條形形狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其中,所述第一間隔沿所述第二方向的長度大于或者等于所述第二間隔的沿所述第二方向的長度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其中,
在所述第一輔助層的所述第一間隔中形成所述光限制層包括:在所述第一間隔中施加光限制層材料,對所述光限制層材料進(jìn)行固化處理形成所述光限制層;
在所述第二輔助層的所述第二間隔中形成所述光傳輸層包括:在所述第二間隔中施加光傳輸層材料,對所述光傳輸層材料進(jìn)行固化處理形成所述光傳輸層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其中,
在對所述光限制層材料進(jìn)行所述固化處理之前,還包括對所述光限制層材料進(jìn)行抽真空處理;
在對所述光傳輸層材料進(jìn)行所述固化處理之前,還包括對所述光傳輸層材料進(jìn)行抽真空處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,其中,沿著所述第二方向,所述光限制層材料和所述光傳輸層材料均包括相對的第一端和第二端,所述抽真空處理包括:
對所述光限制層材料的所述第一端形成負(fù)壓以抽取所述光限制層材料中的氣泡,且在所述光限制層材料的所述第二端施加附加的光限制層材料;
對所述光傳輸層材料的所述第一端形成負(fù)壓以抽取所述光傳輸層材料中的氣泡,在所述光傳輸層材料的所述第二端施加附加的光傳輸層材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法,其中,在對所述光傳輸層材料進(jìn)行所述固化處理之前,且在進(jìn)行所述抽真空處理之后,形成所述光傳輸層還包括:在所述光傳輸層材料的所述第一端形成光導(dǎo)入部件,在所述光傳輸層材料的所述第二端形成光導(dǎo)出部件。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其中,在所述第一方向上,所述支撐層在所述光傳輸層的至少一側(cè)與所述光傳輸層間隔。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法,其中,所述光限制層填充所述第一間隔的全部區(qū)域,所述光傳輸層填充所述第二間隔的全部區(qū)域,且在垂直于所述第一方向和所述第二方向所在平面的方向上,所述光限制層的厚度和所述第一輔助層的厚度相同,所述光傳輸層和所述第二輔助層的厚度相同。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法,其中,所述光限制層的材料包括聚二甲基硅氧烷和固化劑的質(zhì)量百分含量之比為15:1~30:1的聚二甲基硅氧烷溶液;所述光傳輸層的材料包括聚二甲基硅氧烷和固化劑的質(zhì)量百分含量之比為5:1~14:1的聚二甲基硅氧烷溶液。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制備方法,其中,所述光限制層和所述光傳輸層的厚度之比為1:2~1:7。
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