[發(fā)明專(zhuān)利]一種高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911393309.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110987990B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王經(jīng)濤;章震威 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 南京理工大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N23/20008 | 分類(lèi)號(hào): | G01N23/20008;G01N23/207 |
| 代理公司: | 南京禹為知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32272 | 代理人: | 吳肖敏 |
| 地址: | 210094 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高能 單色 閃光 射線(xiàn) 衍射 成像 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像系統(tǒng),該系統(tǒng)包括發(fā)射準(zhǔn)直模塊、單色分離模塊和衍射成像模塊,其中,發(fā)射準(zhǔn)直模塊,包括閃光X光機(jī)和準(zhǔn)直單元,閃光X光機(jī)發(fā)射X射線(xiàn),準(zhǔn)直單元與閃光X光機(jī)相連,且位于X射線(xiàn)出射端沿線(xiàn)上;單色分離模塊,設(shè)置在X射線(xiàn)的沿線(xiàn)上,其包括單色單元和出射單元,單色單元與出射單元相連,且出射單元位于單色單元的出射端一側(cè);衍射成像模塊,位于單色分離模塊出射方向的沿線(xiàn)上,其包括成像板和旋轉(zhuǎn)座,旋轉(zhuǎn)座設(shè)置在成像板的底端;本方法解決了閃光X射線(xiàn)單色分離難的問(wèn)題,同時(shí)確定的精確衍射角可以提高衍射圖像的信噪比,大大降低了系統(tǒng)的復(fù)雜度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及的X射線(xiàn)單色分離技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
X射線(xiàn)和透射電鏡均能研究晶體內(nèi)部的缺陷。透射電子顯微鏡雖然有極高的分辨率,但是樣品的制備過(guò)程復(fù)雜,需破壞樣品,且一次只能觀(guān)察到試樣中很小的部位。即使能做原位拉伸實(shí)驗(yàn),試樣厚度也需要減薄至微米級(jí)別。但是X射線(xiàn)法進(jìn)行原位塑性變形的研究可以不需要破壞晶體,能對(duì)樣品進(jìn)行整體觀(guān)察,并且制樣容易,可以確定位錯(cuò)的類(lèi)型并估算出位錯(cuò)密度。
研究原位拉伸或壓縮的X射線(xiàn)衍射實(shí)驗(yàn)大多需要在同步輻射裝置上進(jìn)行。由于同步輻射光源體積龐大,系統(tǒng)整體技術(shù)復(fù)雜度高,成本十分昂貴,并且擁有同步輻射光源的地方很少,因此實(shí)驗(yàn)有許多局限性。從而限制了相關(guān)行業(yè)的發(fā)展,因此,提出一種高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像方法及系統(tǒng),使得X射線(xiàn)衍射實(shí)驗(yàn)小型化和簡(jiǎn)潔化。
發(fā)明內(nèi)容
本部分的目的在于概述本發(fā)明的實(shí)施例的一些方面以及簡(jiǎn)要介紹一些較佳實(shí)施例。在本部分以及本申請(qǐng)的說(shuō)明書(shū)摘要和發(fā)明名稱(chēng)中可能會(huì)做些簡(jiǎn)化或省略以避免使本部分、說(shuō)明書(shū)摘要和發(fā)明名稱(chēng)的目的模糊,而這種簡(jiǎn)化或省略不能用于限制本發(fā)明的范圍。
鑒于上述現(xiàn)有閃光X射線(xiàn)單色不徹底及強(qiáng)度不高的問(wèn)題,提出了本發(fā)明。
因此,本發(fā)明要解決的一個(gè)技術(shù)問(wèn)題是提供一種高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像方法及系統(tǒng),其目的在于產(chǎn)生能夠進(jìn)行晶體原位位錯(cuò)演變分析的波長(zhǎng)短、強(qiáng)度高、單色性好的閃光X射線(xiàn)。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像系統(tǒng),該系統(tǒng)包括發(fā)射準(zhǔn)直模塊、單色分離模塊和衍射成像模塊,其中,發(fā)射準(zhǔn)直模塊,包括閃光X光機(jī)和準(zhǔn)直單元,所述閃光X光機(jī)發(fā)射X射線(xiàn),所述準(zhǔn)直單元與所述閃光X光機(jī)相連,且位于所述X射線(xiàn)出射端沿線(xiàn)上;單色分離模塊,設(shè)置在所述X射線(xiàn)的沿線(xiàn)上,其包括單色單元和出射單元,所述單色單元與出射單元相連,且所述出射單元位于所述單色單元的出射端一側(cè);衍射成像模塊,位于所述單色分離模塊出射方向的沿線(xiàn)上,其包括成像板和旋轉(zhuǎn)座,所述旋轉(zhuǎn)座設(shè)置在所述成像板的底端。
作為本發(fā)明所述高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像方法及系統(tǒng)的一種優(yōu)選方案,其中:所述閃光X光機(jī),包括高壓脈沖發(fā)生器和閃光X射線(xiàn)管,所述閃光X射線(xiàn)管發(fā)射的X射線(xiàn)包括Kα射線(xiàn)、Kα射線(xiàn)和Kβ射線(xiàn)。
作為本發(fā)明所述高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像方法及系統(tǒng)的一種優(yōu)選方案,其中:所述準(zhǔn)直單元包括鉛準(zhǔn)直器、黃銅管準(zhǔn)直器和玻璃毛細(xì)管,所述黃銅管準(zhǔn)直器連接在所述鉛準(zhǔn)直器的出口端,所述玻璃毛細(xì)管設(shè)置在所述鉛準(zhǔn)直器的內(nèi)腔中,與其入口端與出口端相連通。
作為本發(fā)明所述高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像方法及系統(tǒng)的一種優(yōu)選方案,其中:所述單色單元包括黃銅筒體、單晶體和角位臺(tái),所述單晶體位于所述黃銅筒體的內(nèi)腔中,且放置在所述角位臺(tái)的頂部,所述角位臺(tái)的底部貫穿所述黃銅筒體的側(cè)壁延伸在其外側(cè)。
作為本發(fā)明所述高能單色閃光X射線(xiàn)衍射成像方法及系統(tǒng)的一種優(yōu)選方案,其中:所述角位臺(tái)包括俯仰臺(tái)、旋轉(zhuǎn)臺(tái)和微調(diào)桿,所述俯仰臺(tái)固定在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的頂部,所述微調(diào)桿連接在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)軸線(xiàn)上。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線(xiàn)、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線(xiàn)輻照樣品以及測(cè)量X射線(xiàn)熒光





