[發明專利]基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器及制備方法在審
| 申請號: | 201911393117.X | 申請日: | 2019-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN111162175A | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發明(設計)人: | 于軍勝;黃鈺;張大勇;趙世雄 | 申請(專利權)人: | 電子科技大學 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/46;H01L51/48 |
| 代理公司: | 成都弘毅天承知識產權代理有限公司 51230 | 代理人: | 彭思思 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 空穴 傳輸 界面 優化 鈣鈦礦 光電 探測器 制備 方法 | ||
1.基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器,該光電探測器采用正型結構,由襯底(1)、透明導電ITO陽極(2)、空穴傳輸層(3)、超薄修飾層(4)、鈣鈦礦光活性層(5)、電子傳輸層(6)、陰極緩沖層(7)、金屬陰極(8)從下到上依次組成,其特征在于,所述超薄修飾層(4)為PFN-Br甲醇溶液經旋涂制得。
2.根據權利要求1所述的基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器,其特征在于:所述空穴傳輸層(3)為TAPC,厚度范圍為20~40nm。
3.根據權利要求1所述的基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器,其特征在于:所述超薄修飾層(4),PFN-Br甲醇溶液濃度為2mg/ml,厚度范圍為5~10nm。
4.根據權利要求1所述的基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器,其特征在于:所述鈣鈦礦光活性層(5),厚度范圍為250~400nm。
5.根據權利要求1所述的基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器,其特征在于:所述電子傳輸層(6)為PC61BM,厚度范圍為5~20nm。
6.根據權利要求1所述的基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器,其特征在于:所述陰極緩沖層(7)為Bphen,厚度范圍為1~2nm。
7.根據權利要求1所述的基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器,其特征在于:所述金屬陰極(8)材料為Ag、Al、Cu中的一種或多種,薄層厚度范圍為100~200nm。
8.根據權利要求1-7中任一項所述的基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器,其特征在于:所述襯底(1)為玻璃或透明聚合物材料制得,所述透明聚合物材料為聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚氨基甲酸酯、聚酰亞胺、氯醋樹脂、聚丙烯酸中的一種或多種。
9.根據權利要求8所述的基于空穴傳輸層界面優化的鈣鈦礦光電探測器的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、對由透明襯底(1)及透明導電ITO陽極(2)所組成的基板進行清洗,清洗后用氮氣吹干;
S2、將配置好的TAPC溶液旋涂至ITO基板上,并將旋涂后的基片進行熱退火處理,熱退火的溫度在120℃,時間范圍為20min,得到空穴傳輸層(3);
S3、在電子傳輸層(6)上旋涂PFN-Br溶液并退火處理,熱退火的溫度在110℃,時間范圍為15min,得到超薄修飾層(4);
S4、在超薄修飾層(4)上旋涂CH3NH3PbI3前驅體溶液并退火處理,熱退火的溫度在110℃,時間范圍為20min,得到鈣鈦礦光活性層(5);
S5、在鈣鈦礦光活性層(5)上旋涂PC61BM溶液并退火處理,熱退火的溫度在110℃,時間范圍為15min,得到電子傳輸層(6);
S6、在真空度為3×10-4Pa條件下,在空穴傳輸層(3)上蒸鍍Bphen陰極緩沖層(7);
S7、在真空度為3×10-3Pa條件下,在陰極緩沖層(7)上蒸鍍金屬陰極(8)。
10.根據權利要求9所述的基于空穴傳輸層(3)界面優化的鈣鈦礦光電探測器的制備方法,其特征在于,所述熱退火方式采用恒溫熱臺加熱、烘箱加熱、遠紅外加熱、熱風加熱的一種或多種。
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H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
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H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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H01L51-54 .. 材料選擇





