[發(fā)明專利]一種炫彩效果陶瓷磚及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911387598.3 | 申請日: | 2019-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN111099923B | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 謝岳榮;霍振輝;徐鵬飛;鐘鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 肇慶樂華陶瓷潔具有限公司 |
| 主分類號: | C04B41/89 | 分類號: | C04B41/89;C04B33/00;C04B35/00;C03C8/20;C03C8/00;B24B29/02 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 胡楓;李素蘭 |
| 地址: | 526200 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 效果 陶瓷磚 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種炫彩效果陶瓷磚的制備方法,其包括:制備坯體、施底釉、施干粒釉、燒成,依次采用200?500目的尼龍金剛石磨片、600?800目的樹脂磨片和1200目?2000目的樹脂磨片進(jìn)行拋光,即得到炫彩效果陶瓷磚成品。其中,干粒釉包括超細(xì)干粒和透明釉;所述超細(xì)干粒的粒度≤250目。本發(fā)明大幅度降低了干粒釉料中干粒的粒徑,削弱了干粒造成的凹凸效果,使得磚面不易藏污。同時,本發(fā)明超細(xì)干粒與透明釉配合形成干粒釉;其中,透明釉在燒成后熔融;而超細(xì)干粒由于鋁含量高,在燒成后不熔融,使得超細(xì)干粒包裹在釉漿形成的玻璃體之中,使得磚面在光照射下具有炫麗的金屬光圈,裝飾作用大幅提升。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及陶瓷磚技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種炫彩效果陶瓷磚及其制備方法。
背景技術(shù)
隨著陶瓷磚技術(shù)的發(fā)展,人們對于陶瓷磚的功能性、裝飾性性能要求日益提升。對于功能性而言,防滑、耐污是目前主要的關(guān)注方向。對于裝飾性而言,陶瓷磚的光澤、花紋等則是主要的關(guān)注方向。在此背景下,“干粒”作為一種新的裝飾以及功能化手段,逐漸被應(yīng)用在陶瓷磚生產(chǎn)過程中。
干粒實質(zhì)上是一種特殊的熔塊;在陶瓷磚的發(fā)展過程中,干粒多次被應(yīng)用。如在20世紀(jì)初,陶瓷界推出的微晶磚,即是在磚坯上撒上一層干粒,然后燒成;這種干粒的粒徑一般在厘米級別。又如,在2015年前后金意陶推出的“糖果釉”系列,其光澤柔和,裝飾性能突出,也具有良好的防滑效果;這種干粒仍然在30-80目之間。
隨著技術(shù)的發(fā)展,干粒日益發(fā)揮了各種各樣的功能,如防滑、耐磨、增加通透感等等。然而現(xiàn)有的干粒,在應(yīng)用于磚面時,容易產(chǎn)生毛孔,且耐污性不佳。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于,提供一種炫彩效果陶瓷磚的制備方法,其制備得到的陶瓷磚防污能力強(qiáng)、耐滑能力強(qiáng),且具有良好的裝飾效果。
本發(fā)明還要解決的技術(shù)問題在于,提供一種炫彩效果陶瓷磚。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明公開了一種炫彩效果陶瓷磚的制備方法,其包括:
(1)制備陶瓷磚生坯;
(2)在陶瓷磚生坯表面施底釉;
(3)在步驟(2)得到的陶瓷磚生坯表面施干粒釉;
(4)將步驟(3)得到的陶瓷磚生坯燒成,得到陶瓷磚坯體;
(5)采用200-500目的尼龍金剛石磨片對陶瓷磚坯體進(jìn)行粗拋;
(6)采用600-800目的樹脂磨片對陶瓷磚坯體進(jìn)行中拋;
(7)采用1200目-2000目的樹脂磨片對陶瓷磚坯體進(jìn)行柔拋,即得到炫彩效果陶瓷磚成品;
其中,干粒釉包括超細(xì)干粒和透明釉;所述超細(xì)干粒的粒度≤250目。
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),步驟(5)中,尼龍金剛石磨片對陶瓷磚坯體的壓力為0.1~0.3MPa;步驟(6)中,樹脂磨片對陶瓷磚坯體的壓力為1~1.5MPa;步驟(7)中,樹脂磨片對陶瓷磚坯體的壓力為0.4~0.8MPa。
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),步驟(2)中,所述底釉按質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計的化學(xué)成分為:SiO2 53.5~60%、Al2O3 13~15%、Fe2O3 0.2~0.7%、TiO2 0.3~0.5%CaO 1~3%、MgO 1~3%、K2O 5~8%、Na2O 2~4%、ZnO 1.5~2.5%、BaO 8~11%、LOI 3.5~8%。
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),所述底釉的比重為1.8~1.9g/mL,流速為40~50s,底釉的施釉量為350~400g/m2。
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