[發(fā)明專利]一種用于雙反射層膜中的復(fù)合阻隔材料及其應(yīng)用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911387573.3 | 申請日: | 2019-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN111733390A | 公開(公告)日: | 2020-10-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐紹禹;翟懷倫;尹錚杰;趙錦玲;顏毓雷;王明輝 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波瑞凌新能源科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/02;C23C14/20;C23C14/58;C23C14/24;C23C14/18 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 反射層 中的 復(fù)合 阻隔 材料 及其 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明屬于材料科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,提供了用于雙反射層膜中的復(fù)合阻隔材料及其制備方法,包括呈共混狀態(tài)的第一組分和第二組分;其中第一組分和第二組分均選自金屬氟化物、金屬氧化物、金屬氮化物、半導(dǎo)體摻雜化合物中的任意一種或幾種物質(zhì)的組合;兩者所包含的物質(zhì)種類不完全相同。并且還提供了一種雙反射層膜及其制備方法。有益效果:1、阻隔層能夠使第一子反射層與第二子反射層之間的阻隔更為徹底,避免了電偶腐蝕現(xiàn)象的發(fā)生;2、雙反射層膜在極端條件下的耐老化性能更佳,有效延長常規(guī)和極端使用壽命,有效拓展膜材料的應(yīng)用領(lǐng)域和場景;3、合理提高雙反射層膜的全光譜反射率,避免了因縫隙中留存其他物質(zhì)而對光的反射與透射的影響。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于材料科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,涉及到一種用于雙反射層膜中的復(fù)合阻隔材料及其應(yīng)用。
背景技術(shù)
鋁和銀是最為常見的兩種寬帶高反射膜材料,主要是因為與金膜、銅膜和銠膜不同,鋁膜在紫外、可見和紅外波段均具備很高的反射率,而銀膜則在可見到紅外整個波段具備更高的反射率。
但缺陷在于:鋁膜在860nm可見光處存在明顯的吸收峰,從而降低了整個可見區(qū)的反射率。銀膜則由于表面等離子激元的作用,使其在300nm~400nm紫外波段的反射率急劇降低,特別當(dāng)銀膜的厚度小于170nm時,位于320nm波長處會出現(xiàn)透過窗,即從光源發(fā)射出的紫外光會透過銀膜,并且其透過率與波長范圍也隨著銀膜厚度的進(jìn)一步降低而增大。為克服上述技術(shù)缺陷,現(xiàn)有技術(shù)提供了多種解決方案,但通常都不可避免的引發(fā)新的技術(shù)問題出現(xiàn):
技術(shù)矛盾1:一些現(xiàn)有技術(shù)設(shè)計為增加銀膜的厚度。雖可以避免出現(xiàn)透過窗,但往往會導(dǎo)致膜層自身的應(yīng)力過大,從而使得銀膜在彎曲卷繞時容易出現(xiàn)斷層剝落現(xiàn)象;同時因表面等離子激元而使其在300nm~400nm紫外波段的反射率急劇降低的問題得不到解決。
技術(shù)矛盾2:一些現(xiàn)有技術(shù)設(shè)計為金屬銀層上加鍍多層具有高低折射率的氧化物,以增加對紫外的反射率。但如此的結(jié)果往往導(dǎo)致除某一波段的反射率提高外,全光譜(波長范圍0.3μm~25μm)反射率反而下降;同時還會造成鍍膜工藝復(fù)雜化。
技術(shù)矛盾3:現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)一步研究將銀和鋁進(jìn)行復(fù)合,以彌補各自單獨存在的技術(shù)缺陷和效果缺陷,具體可以為將鋁直接濺射在銀膜上。但如此會導(dǎo)致電偶腐蝕的現(xiàn)象發(fā)生,即因銀和鋁之間發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)而使銀膜出現(xiàn)快速氧化的現(xiàn)象,導(dǎo)致膜層的預(yù)期壽命極度縮減。
技術(shù)矛盾4:現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)一步研究將銀層和鋁層利用阻隔層進(jìn)行阻隔疊置,欲避免電偶腐蝕現(xiàn)象的發(fā)生。但多種技術(shù)成果表明,該技術(shù)方向僅處在研究初期而非可應(yīng)用階段,仍存在眾多無法簡單克服的技術(shù)問題:阻隔層的堆積密度過低,導(dǎo)致內(nèi)部存在大量微小縫隙,使其不僅無法完全有效的對兩反射層進(jìn)行阻隔,同時在特殊環(huán)境下(如環(huán)境潮濕或存在腐蝕性氣體),縫隙構(gòu)成的毛細(xì)結(jié)構(gòu)所引發(fā)的毛細(xì)作用,反而促使了電偶腐蝕現(xiàn)象的快速發(fā)生。
因此,急需一種全新思路或改進(jìn)的技術(shù)方案,以使得上述技術(shù)缺陷、技術(shù)問題或技術(shù)矛盾得到解決。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,提供一種解決方案,以使得現(xiàn)有技術(shù)當(dāng)中存在的眾多技術(shù)缺陷、技術(shù)問題和技術(shù)矛盾得到解決。
本發(fā)明提供了一系列結(jié)構(gòu)以及相關(guān)結(jié)構(gòu)的制備方法,旨在能夠很好的克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題。
具體的,本發(fā)明提供了:
一種用于雙反射層膜中的復(fù)合阻隔材料,包括呈共混狀態(tài)的第一組分和第二組分;其中所述第一組分和所述第二組分均選自金屬氟化物、無機非金屬氧化物、金屬氧化物、金屬氮化物、半導(dǎo)體摻雜化合物中的任意一種或幾種物質(zhì)的組合;所述第一組分和所述第二組分所包含的物質(zhì)種類不完全相同。
通過調(diào)整阻隔層自身的組成和結(jié)構(gòu),以提高阻隔的有效性和可靠性。使用金屬氟化物、無機非金屬氧化物、金屬氧化物、金屬氮化物以及半導(dǎo)體摻雜化合物作為復(fù)合的基礎(chǔ)材料單元,能夠有效減少或避免阻隔層內(nèi)部出現(xiàn)縫隙。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





